【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

水添など気液混合の動力低下を防ぐ！気液プロセス用撹拌機/解説あり

PR気液混合の効率を大幅UP！水添などの課題解決のカギは撹拌設計にあるかも…

産業用撹拌機のマーケットリーダーであるEKATOが、気液混合時に起こる「動力低下」を最小限に抑え混合効率の最大化を実現する 気液混合のための攪拌システムを開発。 内部循環システムにより、水素など高価なガス資源の使用量を削減し、コストダウンを実現します。 攪拌・混合プロセスの研究を続けて90年となるEKATOは、「攪拌のスペシャリスト」として プロセスの課題を解決します。 内部循環システムとは...

メーカー・取り扱い企業： エカート株式会社 日本支社

TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ

太陽電池の製造など、重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮する電力供給…

『TruPlasma DC 4000（G2）シリーズ』は、美しい光学コーティングを 可能にするプラズマ電源です。 難度の高い材料の反応性スパッタリングプロセスに役立つように特別に設計。 このジェネレータは、太陽電池の製造、半導体の製造、硬質コーティングなど 重要な産業プラズマプロセスで威力を発揮します。 【特長】 ■きわめて小さなアーク...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

誘導加熱システム『TruHeatシリーズ』

パワフル、広い適合範囲、優れたプロセス信頼性！使用範囲と用途はほぼ無限…

ョクラルスキー法など特殊なアプリケーションまで幅広くカバー。 速度、安定性、制御とエネルギー効率を巧みに組み合わせることにより、 誘導加熱を的確に使用することで、様々な工業分野と多数の生産プロセスに おいて大きなメリットを得ることができます。 【特長】 ■典型的な誘導加熱からエピタキシャル成長やチョクラルスキー法など 　特殊なアプリケーションまで幅広くカバー ■パワフル、広い...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

TruPlasma MF 7000（G2）シリーズ

重要なプロセスにおける完全なコントロール！最大限のスパッタ率が確保され…

『TruPlasma MF 7000（G2）シリーズ』のジェネレータを使用すれば、 非常に重要なプロセスでも完全にコントロールを握ることができます。 たとえば、建築用ガラスへのSiOxなど難度の高い材料のコーティング、 フラットパネルスクリーンへのAlxOyコーティング、ソーラーガラスへの ...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズ

数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性！当社の電力供給装置を…

グ前処理）や半導体用途（トレンチ充填）にも 利用できます。 【主な利点】 ■飛沫フリーのスパッタリング、薄膜の不具合の低減 ■コンパクトな寸法、容易なシステム統合 ■既存の陰極およびプロセス要件に簡単に適応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社

TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ

波形と周波数のフレキシビリティ！圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…

ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高クラスのアーク制御 ■エネルギー効率と力率 ...

メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社