製品ライフサイクルシステム管理システム「Windchill」

PR業界最高水準のテクノロジーにより、製造業の部門内および部門間のデジタル…

Windchill はデジタルスレッドを実現するグローバル PLM ソフトウェアです。NSW製造業向けソリューションと緊密に連携し新たなバリューを創出いたします。 【主な特徴】 １）ワンシステムでシンプルな仕組み ２）豊富な標準機能とベストプラクティス ３）プロトタイプアプローチによる「見える」システム導入 ４）パラメータ中心のノンプログラミング型実装 ※PLMとは 「Pro...

メーカー・取り扱い企業： NSW株式会社 サービスソリューション事業本部

三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト】シリーズ

PR研究開発から、小LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」…

　株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 小ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三明 本社／静岡市、支店／東京・沼津・中部・大阪、営業所／横浜・北関東・山形・名古屋・北陸・長野・八戸

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

真空装置　基板用平行平板プラズマ処理装置　PC-RIEシリーズ

処理可能基板サイズ550×650ｍｍ。無廃液化・低ランニングコストを実…

「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、Ｆ系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化，無廃液化 ○低ランニングコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研