独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

【初展示製品多数】医薬品・化粧品の開発に関わるご担当者様必見！

PRインターフェックスWeek東京に出展します。ニッチだけど新しい、費用対…

ジャパンマシナリーは、「インターフェックスWeek東京」に出展いたします。 一つのカテゴリーに収まりきらない製品群を持つ当社のブースでは、 商品開発、プロセス開発、生産技術、製造、保全までのすべての ご担当者様必見です。 わずか1μL/秒の極小領域対応のシングルユース対応シングルユースマイクロ ドージングポンプ「QB2-SD」や、ゲームチェンジャーとなる世界最小クラスの 顕微ラマン分光センサー...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社

高温管状電気炉( チューブ炉 )1200℃～1600℃

研究開発・実験用　高温管状炉 最高温度1600℃ 標準横型、オプ…

＜説明＞ ■　チューブ(炉心管）の設計は標準は横置き(水平型）です。 ■　オプションにて、縦型スタンド式、縦横兼用のユニバーサルスタンドがございます。 ■　ユニバーサルススタンドでは、垂直または水平に、または傾斜の位置で動作するように配置することができます。 ■　傾斜角度の設定や、安定した温度環境を実現することで 温度環境が安定しているため、様々な熱処理プロセスの再現に適しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

OSK 481TVK-V 1200℃　真空管状炉

1200℃最高温度の真空管状炉　 石英・セラミック炉心管対応

• 最高温度は1200℃で、カンタルワイヤー発熱体を使用しています • 真空ポンプと配管を接続することで、低真空・中真空下での熱処理が可能です • 真空置換機能により、不活性ガスや反応ガスなどの制御雰囲気での加熱が可能です • 大気での加熱も可能で、3種類の加熱方法を1機で実現できます • 温度制御器は本体に内蔵されており、制御箱を別置きにする必要がありません ...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

ラボ用真空熱処理炉『OSK 75YU 14HV』

断熱性に優れたセラミックファイバーを採用した炉室を使用！1700℃まで…

当社が取り扱う、ラボ用真空熱処理炉『OSK 75YU 14HV』を ご紹介いたします。 金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、高温合金、 硬質合金、非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気 での真空焼結とアニールの熱処理に対応。 炭酸化の開発プロセスにおける炭素製品のような材料の特殊な 熱処理にも対応できます。 【特長】 ■温度均一 5℃以内 ■良好な真空フ...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

ラボ用真空熱処理炉『OSK 75YU 12HV』

良好な真空フランジシールにより漏れがない！個性的なカスタマイズが可能

『OSK 75YU 12HV』は、金属材料やセラミック部品、特にステンレス鋼、 高温合金、硬質合金、非鉄金属のような材料の還元性または保護雰囲気 での真空焼結とアニールの熱処理に対応する高真空炉です。 炭酸化の開発プロセスにおける炭素製品のような材料の特殊な熱処理 にも対応可能。 温度精密が±1のSCR(ケイ素制御の整流器)と30の区分のプログラム可能な 温度制御を搭載しており...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社