イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

PRR＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約…

当社で取り扱う、「イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)」を ご紹介いたします。 標準的なエントリーモデルから、膜厚均一性等の精密な制御が可能な ハイエンドモデルまでラインアップ。企業、アカデミアでの研究開発向けに、 グローブボックス付属等の特殊仕様にも対応します。 また、R＆Dのラボスケールから量産まで対応し、難エッチング材料のエッチング プロセスや、デュアルイ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

研究開発用ビーズミル PML 2

大量生産へのプロセス・スケールアップに理想的なビーズミル

PML 2は、ラボスケールのプロセス開発に好適なビーズミル・プラットフォームです。モジュール方式のため、高い柔軟性を備え、お客様の用途にあわせたカスタマイズ仕様が可能です。 各種アプリケーションに応じて、定評あるビューラー製のミル部...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

予備分散機『MacroMedia』

効率的な粉砕処理＆柔軟な流量・粒度制御！原料品質の均一化や高機能塗料開…

『MacroMedia』は、高機能ポンプと小容量粉砕ユニットを 組み合わせた機構により、高い循環流量を確保。狭い粒度分布を実現し、 プロセスの柔軟性向上、原料品質の均一化が可能な予備分散機です。 エネルギー密度や流量、ビーズ粒度などを広い範囲で制御でき、 材料に合わせた湿式粉砕・分散用途に対応できます。 パッケージ用リキッドインキの色の濃さ、透明度・光沢向上や、 自動車用の高機...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

コニカル型ビーズミル　K-8

低粘度から高粘度まで幅広い粘度域の製品に対応！新世代ビーズミル

K8は、セパレーションギャップの動的リリーフ機能と強力なステーター/ローター冷却システムを装備した、研究開発用及び小規模生産用の小型ビーズミルです。 広範囲にわたる粘度の製品の粉砕と分散を実現可能にするとともに、粉砕材料の組成に対して高い柔軟性をもたらします。 　　...セパレーションギャップの動的リリーフ機能と強力なステーター/ローター冷却システムを装備した、コニカル型ビーズミルです。 ...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

イオンビーム描画装置OMFシリーズ

ビューラー・ライボルトオプティクス（旧OPTEG社）のイオンビーム描画…

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。 研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。 2018年より新たに真空中で超精密光学レンズの表面研磨を...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社