真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

コンタミレス軸封構造「ノンメタルPEC」

コンタミネーション対策を実現した軸封構造！

近年、特に電子材料・医薬をはじめとするファインケミカル製造プロセスにおける反応槽・撹拌槽・乾燥機などの機器は、耐食性・洗浄性・金属イオン溶出防止などの機能が要求され、そのレベルは年々厳しくなっています。 さらに、大きな問題は異物対策（コンタミネーション対策）です。 タンク類における異物対策はフッ素樹脂焼付コーティングなどを施工することでほとんど解決してきましたが、撹拌装置軸封部からの摩耗粉...

メーカー・取り扱い企業： 日本フッソ工業株式会社