【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

ものづくり企業向け電子カルテシステム『MoldX』

PRIT導入補助金を活用して導入可能。製品構造、製品図、3Dデータ、部品表…

ものづくり企業向け電子カルテシステム『MoldX』は、 散逸しがちな様々な情報をデータベース化し一元管理して 見つけやすく、共有しやすくするソリューションです。 情報共有のほか、製造状況の把握、蓄積されたデータの活用など、 より良いものづくりにつながる機能が搭載されています。 【特長】 ■紙の設計書・書類、PDFなどの電子ファイルなどを一元化 ■リアルタイムにデータが蓄積され...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カワイ精工

【技術資料】エキシマランプを用いた薄膜製造のプロセスの可能性

「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度に…

金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外光照射によるゾル－ゲル薄膜の改質

紫外・可視光透過スペクトルを分光光度計により測定！ゾル－ゲル薄膜の改質…

均一な組成をもつコーティング膜を得る方法として有力なゾル－ゲル法は、 ゲル膜からの水分の除去や有機成分の分解には、通常、数百℃の熱処理を 要するため耐熱温度の低いプラスチック上に強固な膜を得るのは難しいです。 そこで、真空紫外（VUV）光を用いた光量子（フォトン）プロセスは、照射に よる熱過程をともなわずに、光子の作用のみで原子の結合を切断できるため、 薄膜の改質にも応用できると考え...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー