• 【初展示製品多数】医薬品・化粧品の開発に関わるご担当者様必見! 製品画像

    【初展示製品多数】医薬品・化粧品の開発に関わるご担当者様必見!

    PRインターフェックスWeek東京に出展します。ニッチだけど新しい、費用対…

    ジャパンマシナリーは、「インターフェックスWeek東京」に出展いたします。 一つのカテゴリーに収まりきらない製品群を持つ当社のブースでは、 商品開発、プロセス開発、生産技術、製造、保全までのすべての ご担当者様必見です。 わずか1μL/秒の極小領域対応のシングルユース対応シングルユースマイクロ ドージングポンプ「QB2-SD」や、ゲームチェンジャーとなる世界最小クラスの 顕微ラマン分光センサー...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンマシナリー株式会社

  • 『ビジネス改善支援』 製品画像

    『ビジネス改善支援』

    PR製品開発の期間短縮、意思決定の迅速化を実現。製品の企画・開発プロセスを…

    当社は、製品の企画・開発プロセスを最適化し、 業務の効率化などを実現する『ビジネス改善支援』を行っています。 より良い製品開発に必要な顧客要望の集約や管理、 企画から開発に至るプロジェクトの透明性の向上などを実現し、 製品開発の期間短縮や、意思決定の迅速化を支援します。 Atlassian TEAM TOUR Tokyo は、チームワークのイノベーションについて語り合う、年に一度...

    メーカー・取り扱い企業: INNOOV(イノーブ)株式会社 東京

  • 社内一貫の製造プロセス 共立エレックス 高機能セラミックス 製品画像

    社内一貫の製造プロセス 共立エレックス 高機能セラミックス

    高機能セラミックス基板は専業メーカの当社にご相談ください

    当社ではセラミックス原材料の調合からグリーンシート塗工・高温焼成を経てセラミックス基板化、その後の回路形成までの一貫した社内製造プロセスを有し、品質・納期などを自社管理のもとで製造しています。 LEDパッケージなど電子デバイス用途を中心に豊富なセラミックス部品の提供において豊富な実績があり、また様々なお客様からのご要望に応えるべく新たな技術開発を進めております。 次のような「当社の強みポイント...

    • technology_substrate-ultra-thin-KZ3_1.png

    メーカー・取り扱い企業: 共立エレックス株式会社

  • 2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援 製品画像

    2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

    光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

    古河電気工業(株)でコーポレートの生産技術部門に26年間所属し、生産技術開発センター長を5年勤めました。主に光ファイバの開発・量産ラインへの装置導入の業務を行ない、現在も導入した装置が現役で活躍しています。 私が担当した1980年後半から通信バブル崩壊するまでは毎年線引速度が高速化しプリフォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉...

    メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉

  • 高輝度LED用パッケージ技術 セラミックス 製品画像

    高輝度LED用パッケージ技術 セラミックス

    セラミックス基板製造から印刷回路形成までの一貫製造プロセスを活かして、…

    LED技術の進歩に応えるセラミックスパッケージ技術 発光素子であるLEDは照明用途に限らず、家電・情報機器や医療機器など幅広い分野での普及が進むととともに、高輝度化や短波長化が急速に進んでいます。それに伴い、LEDパッケージ部材にも様々なご要望が求められています。 当社では、セラミックス基板製造から印刷回路形成までの一貫製造プロセスを活かして、「多様なLEDパッケージへのお客様ニーズ」にお応え...

    メーカー・取り扱い企業: 共立エレックス株式会社

  • データ駆動型材料開発 製品画像

    データ駆動型材料開発

    オントロジーとマイニング、計測と実験装置の自動制御

    ◇マテリアルズ・インフォマティクスを加速化させ実験プロセスを革新する「データ駆動型材料開発」の全貌! ◇材料探索のオントロジー、文献情報の抽出、計測インフォマティクスから実験装置の自動制御まで! ◇新規触媒や電池材料など、最新のデータ駆動型材料探索...「データ駆動型材料開発 ~オントロジーとマイニング、計測と実験装置の自動制御~」 ■体裁:B5判 290頁 ■定価:52,000円+税 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エヌ・ティー・エス

  • 自社製造のセラミックス基板に電子部品用途向け厚膜印刷回路 製品画像

    自社製造のセラミックス基板に電子部品用途向け厚膜印刷回路

    弊社オリジナルのセラミックス基板の上に、お客様ご自身でデザイン設計され…

    当社のアルミナ両面回路基板は、独自のスルーホール製造技術により表裏パターンの接続形成が可能です。 これまでスルーホールに導体を埋めることは導体の焼成収縮のため困難とされてきましたが、焼成収縮を制御したペーストと最適なプロセスを独自開発し、スルーホールに導電性ペーストを充填したビア構造のアルミナ印刷基板の供給を可能にしております。 当社独自の技術は従来のアルミナ印刷基板では実現で...

    メーカー・取り扱い企業: 共立エレックス株式会社

  • 低圧プラズマ装置 粉体処理専用モデル 製品画像

    低圧プラズマ装置 粉体処理専用モデル

    プログラム番号を選択後、ボタン1つでプラズマ処理完了。操作性がよく、ど…

     Diener GmbH + Co. KGは、低圧プラズマ粉体システムを開発し、疎水性の機能性添加剤を恒久的に親水性にすることで、多くの先駆的な用途に向けた製品特性を改善することができるようになり、新製品開発に数多く携わってきた実績のある製品です。  例えば、親水化したPEパウダーは、金属とプラスチックの接合強度を高めることができます。この親水化は、低圧プラズマ処理によって実現され、処理条件...

    • テクノアルファ1102.jpeg
    • 20220927Diener Powder Treatment.png
    • 20220927Diener NANO Standalone.jpg

    メーカー・取り扱い企業: テクノアルファ株式会社

  • セラミックス基複合材料(CMC)用のプリプレグ材 製品画像

    セラミックス基複合材料(CMC)用のプリプレグ材

    お客様の目的/用途に合わせて、繊維とマトリックスを選定し、プリプレグを…

    当社研磨材製造で培ったパウダー技術、パウダーを分散させるスラリー技術、スラリーを均質なシートにするシート化技術、これらの技術と繊維を組み合わせ、プリプレグを開発しました。プリプレグを焼結することでセラミックス基複合材料(Ceramic Matrix Composites:CMC )になります。 CMCは炭化ケイ素等のセラミックス成分で構成されているため、既存耐熱合金よりも耐熱性があり軽量です...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド

  • ナノサイズゼオライト ZeoalZSM-5 製品画像

    ナノサイズゼオライト ZeoalZSM-5

    ZSM-5 疎水性

    ZSM-5型ゼオライト 代表的機能:脱臭、VOC吸着、触媒(担持体) 構造コード:MFI 単位胞組成:Nan[AlnSi96-nO192]・xH2O 細孔径:6Å 一次粒子径:100nm~ SAR:200 ・代表的な高シリカの合成ゼオライトで、Al濃度の減少と共に疎水性が増します。特にAl を含まないものは silicalite-1 と呼ばれ、高い疎水性を示します。 ・細孔径は...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社中村超硬

  • 導電性セラミックス 製品画像

    導電性セラミックス

    mΩ(ミリオーム)からGΩ(ギガオーム)まで 用途に合わせて特性調整…

    セラミックスは、耐摩耗性(硬さ)と強度を両立した機械特性に優れた材料であり、 当社製品としては表面実装機向けの吸着搬送ノズル等に広く採用されています。 一般的にセラミックスは電気的には絶縁体(電気を通さない材料)ですが、 近年、半導体・電子部品製造プロセスやエレクトロニクス分野において、 静電気対策のために、導電性を備えたセラミックスが求められています。 このようなニーズに対応するた...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社長峰製作所 営業部

  • パワーデバイス(SiC)をチップ化 製品画像

    パワーデバイス(SiC)をチップ化

    ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

    三星ダイヤモンド工業は創業以来の独自技術、SnB「スクライブ&ブレーク」工法で、シリコンカーバイト(SiC)、窒化ガリウム(GaN)、アルミナ(Al2O3) 、サファイア(Sapphire)、窒化ケイ素(Si3N4)、シリコン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工(個片化)する技術です。  MDI独自技術であるSnB「スクライブ&ブレーク」によっ...

    メーカー・取り扱い企業: 三星ダイヤモンド工業株式会社

  • 高周波デバイス(GaNonSiC、GaAs)をチップ化 製品画像

    高周波デバイス(GaNonSiC、GaAs)をチップ化

    ドライプロセスの為、水を一切使用せず環境に優しい。カーフロスゼロで生産…

    三星ダイヤモンド工業は創業以来の独自技術、SnB「スクライブ&ブレーク」工法で、シリコンカーバイト(SiC)、窒化ガリウム(GaN)、アルミナ(Al2O3) 、サファイア(Sapphire)、窒化ケイ素(Si3N4)、シリコン(Si)などの基材に、金属膜やシリコーン樹脂が積層されたデバイス基板を精密に切断加工(個片化)する技術です。  MDI独自技術であるSnB「スクライブ&ブレーク」によっ...

    メーカー・取り扱い企業: 三星ダイヤモンド工業株式会社

  • ナノサイズゼオライト Zeoal4A 製品画像

    ナノサイズゼオライト Zeoal4A

    4A 親水性

    Linde Type A (A型ゼオライト) 代表的機能:低相対圧での吸湿、イオン交換 構造コード:LTA 単位胞組成:{Na12[Al12Si12O48]・27H2O}8 細孔径:4Å 一次粒子径:50nm~・300nm~ 製品形態 :粉体、樹脂混錬ペレット、スラリー ・SiとAlが同数配位した組成を有する親水性の強い代表的なゼオライトです。 ・気体や液体の脱水材の他、イ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社中村超硬

1〜12 件 / 全 12 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png
  • 修正デザイン2_355337.png

PR