リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

マイクロ波加熱装置「μReactor Mx」

ムラのない加熱が可能！オプションが充実したマイクロ波加熱装置

「μReactor Mx」は、1000Wの専用インバータとマグネトロンを 3基搭載したマイクロ波加熱装置です。 対向しない上面、側面、背面の3方向からマイクロ波をサイクロン照射 することで、広いキャビティ内に大きな対象物を静止させたまま、 ムラのすくな...

メーカー・取り扱い企業： 四国計測工業株式会社

915MHz　半導体式マイクロ波加熱実験装置

半導体式マイクロ波加熱実験装置　発振周波数915MHz　各種電池材料の…

半導体式マイクロ波加熱実験装置　 電源が商用電源AC100V・デスクトップサイズ等、使い易さを考えて新開発したマグネトロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 各種電池材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥等の実験に最適な装置です。また電界と磁界を分けてそれぞれにて試験ができます。従来の電...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

マイクロ波発振器（加熱用）『HPS-30A』

リニューアルを経て、3kWタイプが登場。軽量・コンパクトなセパレート仕…

】 ■電源部「HPS-30A」 　入力電源：三相180～220V、50／60Hz、17.5A 　出力安定度：180～220Vの入力変動に対し、±5％以内（3kW出力時） 　出力制御方式：マグネトロン陽極電流フィードバック制御 　外形寸法：W365×D385×H162mm　※突起物含まず 　重量：15kg以下 　使用環境：温度0～45℃（結露無きこと、腐食性ガス無きこと） 　　　　　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッシン

【資料】マイクロ波

マルチマグネトロン制御方式によるマイクロ波加熱・殺菌・解凍装置について

食品業界においては新製品の開発が日進月歩で進められており、その種類・ 質とも多岐多様に亘っています。 しかしながら、食品の種類・要求品質に応じ好適な殺菌処理をしているか どうかというと、まだまだ十分というわけではありません。 当資料では、マイクロ波の概説および、食材の表面と芯部を巨視的は同時に 短時間で加熱し、食感や風味、香り、営養価等を保つ事ができるマイクロ装置で しかもここ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ハイコム株式会社