• プラスチック成形機用パージ剤『ALLESKLAR(アレスクラ)』 製品画像

    プラスチック成形機用パージ剤『ALLESKLAR(アレスクラ)』

    PRシリンダー内の炭化物除去でコンタミ・黒点を防止。無機物不使用のため金型…

    『ALLESKLAR(アレスクラ)』は、プラスチック成形機内に残留した、 異物混入や黒点の原因となる炭化物を素早く除去できる洗浄剤です。 希釈レジンと混ぜてシリンダーに充填し、冷却・再加熱をして排出するだけでよく、 無機物を使わず界面活性効果で高い剥離性能を発揮します。 マスターバッチのため、リサイクル材などをベースレジンとして使え、 コスト削減や環境負荷低減につなげることも可能...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ジェスコ

  • 【新製品】吸着搬送の電力削減に貢献!電動吸着ハンド「e-VEE」 製品画像

    【新製品】吸着搬送の電力削減に貢献!電動吸着ハンド「e-VEE」

    PR電力削減率最大77%!エジェクタからの切替で吸着搬送を省エネ化・カーボ…

    電動吸着ハンド「e-VEE」は吸着搬送に役立つロボット用エンドエフェクタです。 真空ポンプ内蔵のため圧縮空気の供給は不要、どこでも使用可能です。 コンプレッサの吐出圧力・流量を抑制することで、電力削減に貢献します。 入出力信号方式はPNP方式・NPN方式があります。ご確認の上、ご選択ください。 また、ロボットへ取付けの際は、弊社製「ねじ込み式 ツールフランジ」 または株式会社コスメック製「マニュ...

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    メーカー・取り扱い企業: 日東工器株式会社

  • ラップマスターCMPマシーン『LGP-612』 製品画像

    ラップマスターCMPマシーン『LGP-612』

    高精度研磨を実現!多段階ステップを有し、複雑な研磨レシピに対応可能

    『LGP-612』は、φ4"~φ8"ウェーハ対応の2ポリッシングヘッドを備えた 高精度技術の開発を支援する製品です。 ポリッシングプレートには超平坦アルミナセラミックスを採用。 ポリッシングヘッドはワンタッチで交換可能な機構となっており、 低摩擦シリンダーを採用したことにより、加圧の追従性を高めました。 【特長】 ■偏荷重にも耐えうる剛性を高めた設計のスピンドルにより高精度...

    メーカー・取り扱い企業: ラップジャパン株式会社

  • ラップマスターCMPマシーン『LGP-712』 製品画像

    ラップマスターCMPマシーン『LGP-712』

    φ8"~φ12"ウェーハに対応!CMP加工中にln-Situパッドコン…

    『LGP-712』はφ8"~φ12"ウェーハに対応し高精度技術の開発を支援する製品です。 2ポリッシングヘッドを備えデバイスの平坦化CMPに対応。 パッドやスラリーのご研究開発用の実験機としても適しております。 当社では、Cu-CMPなどのメタルCMPにも対応しお客様のご要望に お応えできるように多くのオプションを用意しております。 【特長】 ■超精密ポリッシングが可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: ラップジャパン株式会社

  • 電子部品の断面観察におすすめ研磨アイテム4選!! 製品画像

    電子部品の断面観察におすすめ研磨アイテム4選!!

    電子部品の断面が簡単、きれいに仕上がります!!

    【掲載内容】 ■研磨バフ ・テックスメットP ・ベルドテックス ・マスターテックス ■研磨剤 ・マスタープレップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ITWジャパンビューラー株式会社 ビューラービジネスユニット東京本社

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