【円筒状ヒーター】グラファイト, C/Cコンポジットヒーター

超高温 Max1800℃円筒状ヒーター

ご指定の仕様にて都度製作致します。 * 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。...◎ 使用可能環境：真空中, 不活性ガス中 etc.. ◎ 発熱体：Graphite, CCコンポジットヒーター、など。 ◎ 用途：各種真空装置プロセスチャンバー内での試料加熱、放電プラズマ生成ユニット（Lab6）用、特殊ガス供給系統配管急速加熱（液体急速気化） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ：Φ2〜6inch 真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳細別途協議）...◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式） ◉ 基板回転 ◉ RF(1...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社