液体を微少量×定量供給！モーノポンプ マイクロリットルシリーズ

PR研究・開発用途での微少量×連続定量注入を実現！スラリー対応の微少量用ポ…

『モーノポンプ マイクロリットルシリーズ』は、微少量の連続定量注入を実現する高性能ポンプで、 シビアな吐出精度が求められる塗工機への供給や、研究・開発用途で活躍します。 固形分を含んだ液体でも、液性を変えることなく定量吐出することが可能なほか、 部品点数が少ないシンプル構造で、簡単に分解・洗浄することができます。 また、時間あたりの吐出量が回転速度に比例するので、モーターの制御だけ...

メーカー・取り扱い企業： 兵神装備株式会社 東京支店

スーパータル　シングルウェハーリアクター

電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール □■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ：SWR...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

粒子用 ALD （原子層堆積）装置 / FORGE NANO社

粒子専用のALD（原子層堆積 Atomic Layer Deposit…

D（原子層堆積）装置で様々な開発用途に活用できます。ナノスケールの粒子の成膜をミリグラムからキロまでプロセス可能です。　 ■流動床を含めた手法により膜厚を均一にコントロール ■３種類の容量のリアクターサイズ ■複数のプレカーサーを個別に温度コントロール ■多様な粒子材料へ多様な膜の成膜が可能 ■カスタムレシピーを容易に作成し自動運転 ■粒子容器は取り外し可能 ＊量産用の装置ラインア...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

フォマリティーを実現 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■リアクター圧力、分離されたガス供給ラインとICPソースと基板電極間の 　間隔調整によるプロセスの最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ