【インターフェックス２０２４出展】サンテック標準ボトルラベラー

PR丸ボトル角ボトル対応！各種印字機、検査機等のオプション対応も可能です。

本装置は、インライン・オフライン共に対応できるボトル胴面の全周方向へラベルを貼付ける装置です。 オプションとしましては、『ラベル印字機』『印字検査機』『角ボトル対応』『ターンテーブル』『コンベヤ長』 『その他ご相談』がラインナップしております。 ★インターフェックス2024出展決定！（6/26~6/28　東京ビッグサイト東５ホール 小間番号３６－３６） インターフェックスでは以下の装置を出展予定...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンテック

独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能 6) 数mmまでの厚膜ウェ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER　MBEセル（蒸着源）

MBEセル（蒸着源、分子線セル）はエピタキシャル膜の品質において重要で…

計約800台の装置を世に送り出してきました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、5G/6G、VCSELレーザー、フォトニクス、センサー、3Dセンシングなど様々な最先端分野の研究または生産ツールとして貢献しています。 日本国内では、伯東株式会社が総代理店として、同社製品の販売と保守サービスを提供しており...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社