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多用途の薄膜形成が可能!導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱
『Pioneer 120 PLD System』は、PLD(パルスレーザー堆積法)装置です。 標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で、 導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能。 また、パルスレーザー(<20nsのパルス幅)により素早く目的の物質を蒸発させ、 その組成を維持したまま薄膜の形成が可能です。 【特長】 ■PLD(Pulsed L...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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