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【高速熱風で均一処理・短期乾燥】PN-JET乾燥機『熱処理装置』
PR【乾燥ムラ削減】500mm~5,000mmの幅に対応!平面ボード等の均…
PN-JET乾燥機『熱処理装置』は、多列パイプノズルから”高速熱風”を吐出する熱風循環乾燥・熱処理装置です。 コンベヤーでワークが搬送されながら平面形状のボード・フィルム・シート等を乾燥・熱処理することができます。 ノズルから吐出される風速は均一で、乾燥ムラが出にくい配列となっており、 装置内部は若干のマイナス圧に保たれる為、熱効率の高い装置となっています。 熱源はガス・灯油バ...
メーカー・取り扱い企業: J-one(株式会社アドペック/ヤマシン技研株式会社)
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PR特許取得のロック機構で止めた位置から微動しないステージ。ロングストロー…
バリエーション豊富で多彩な組み合わせができる「アリ溝式ステージ」に、 ロングストロークでストッパー不要の『SLXシリーズ』が加わりました。 位置調整後にステージをストップする特許取得のセルフロック機構を搭載。 手動ストッパーやクランプ操作による微動・位置ずれの心配がありません。 高い位置決め精度での加工・検査が求められる用途や、 位置調整後に長時間確実に固定したい用途で活躍します...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ミラック光学
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好適な表面処理によるパーティクル低減!ロードロック式による高真空プロセ…
『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高90...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です!
『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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最高900℃の高温プロセスが可能!エピタキシャル促進機構により単結晶成…
ーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…
てサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績(抜粋)】 ■太陽電池用プラズマCVD装置 ■立体物用プラズマCVD装置 ■研究開発用ロードロック式プラズマCVD装置 ■金属容器用プラズマCVD装置 ■医療容器用プラズマCVD装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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相談だけでも歓迎!設計から製作、組立まで自社で一貫して対応!各種装置製…
【製作実績(抜粋)】 ■薄膜MEMS用超高温スパッタリング装置 ■薄膜MEMS用バッチ式スパッタリング装置 ■多元複合スパッタリング装置 ■有機EL用GB付きスパッタリング装置 ■ロードロック式二元スパッタリング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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「2段階複合Pt成膜装置」などの実績を保有!ご用命の際はお問い合わせく…
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『蒸着装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「2段階複合Pt成膜装置」や「HDDメディア研究開発用ルブ蒸着装置」、 「ロードロック式高真空超高温EB蒸着装置」の実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績】 ■2段階複合Pt成膜装置 ■HD...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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「有機EL用GB付きスパッタリング装置」や「研究開発用IBS装置」など…
【製作実績(抜粋)】 ■薄膜MEMS用超高温スパッタリング装置 ■薄膜MEMS用バッチ式スパッタリング装置 ■多元複合スパッタリング装置 ■有機EL用GB付きスパッタリング装置 ■ロードロック式二元スパッタリング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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