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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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PR<液体の濃度変化にタイムリーに対応>設置工事不要のため【現場分析/即時…
『MH-6000A』は、液体の濃度変化をタイムリーに管理したい場合や、 現場分析する際にお勧めのポータブル元素分析装置です。 ◇活用現場事例◇ ◎非鉄金属精錬 ◎金属表面処理 ◎飲料製造 ◎水耕栽培 ◎発酵・培養 etc... 小型で工事不要のため、分析ニーズのある場所に配置が可能。 即時分析ができ、DX化に寄与。 また、波長帯と分解能の調整もでき、アルカリ溶液の測定も可能です。 ガス配管...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロエミッション
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精密ウォブルスティックは、超高真空チャンバー内の繊細な操作のために開発…
、シャフトの動きが大気圧と 超高真空圧差の影響を受けないので、滑らかに制御が可能です。 ハンドルを放しても、シャフトは同じ位置にとどまります。 UHV-SPMでのチップ及びカンチレバー交換、サンプル搬送、 更にデリケートな取扱いを要求される作業に好適です。 【主な用途】 ■UHV-SPMでのチップ及びカンチレバー交換 ■サンプル搬送 ■デリケートな取扱いを要求される作業...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社テク
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大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…
KPa以内に制御。 これにより専用排気ブロワーを不要化、ランニングコストを低減します。 【管理性】 剤破過検知器(ブレイクモニター)のサンプリング位置を 自動切換することにより、剤交換時期を正確に管理することができます。 【安全性】 ・排気ガス部材質は、処理対象ガス及び反応温度を考慮した材質を使用。 ・固定生成物が排気ガス中に混在している場合も、バグフィルターで除去が可...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部
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CXコーティング 防水 防湿 生体適合性 無償コートも受付中
防水・防湿、絶縁、生体適合性などの性能を持ち合わせているCXコーティン…
-X独自技術の多層被膜、耐水性と耐熱性を併せ持つ 【特徴】 ◆体内埋め込み部品への実績を持つ生体適合性! ◆立体部品のすべてを覆う高い細部浸透性! ◆WVTR-10-4を達成し10年以上交換不要な持続性! ◆CVD技術での低温成膜! ※詳細試験結果資料ダウンロード可能 この他にも弊社の強みとして前処理工程なども行っておりますので、現状での問題点や改善を考えている等、現在の使用...
メーカー・取り扱い企業: オーエスジー株式会社グループ
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高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あら…
す。SEMのスタブに取り付けた試料をホローカソード内に置き、スタートスイッチを押すだけです。 ★危険な未反応オスミウムガスは排出オスミウムトラップ(活性炭)で取り除き大気汚染は在りません。活性炭の交換時期は、操作パネルで確認可能です。 ★膜厚コントロールは時間・温度・電流により微調整を可能にしています。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真空デバイス
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新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…
本構成を従来型エッチング装置「SERIO」「EXAM」と互換性を持つ高密度プラズマエッチング装置。 チャンバ構造・排気系・電源構成等は従来型エッチング装置「SERIO」とも互換性を持っており、電極交換によりCuエッチング等新プロセス対応にアップグレード可能。 大型基板用にCToCタイプも対応可能 Cu膜など難エッチングプロセスに対応し幅広い基板ウェハ’(Si、ガラス、セラミックス)、FPD、...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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低価格な小型装置!
室にも置きやすい省スペース - 他の機器との組み合わせが容易 - 処理部と操作部の一体化で取り回しが良い ●シンプルな構造 - メンテナンス、点検が容易 - 電極(消耗品)を簡便に交換 ●均一性 - ハンディタイプのコロナ処理よりも均一 ●処理効率 - 真空プラズマ処理と比べ真空排気が不要 ●ランニングコスト - ガス供給なしで使用可能...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社チェッカーズ
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大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」
ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置
使用した装置です。 これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。 また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。 【特徴】 ○電極交換(誘電体部)不要 ○幅広処理(100ミリ~3000ミリ) ○ダウンストリーム型電極形式の為、処理面に対しダメージ発生がない。 ○2年毎のメンテナンスのみ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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