• リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 光学部材用金型洗浄機『クリピカエースOPT』 製品画像

    光学部材用金型洗浄機『クリピカエースOPT』

    PR輝度回復と歩留まり改善。光学部材用金型洗浄機『クリピカエースOPT』な…

    \非接触で洗浄!/ 光学部材用金型洗浄機『クリピカエースOPT』は、デリケートな光学部材用の金型に付着した汚れをノーダメージで完璧に除去します。ガス焼け、樹脂汚れに対応。ナノ、ミクロレベルの汚れも逃さず除去します。 【従来の光学部材の金型メンテナンス】 ●綿棒やスワブなどを使って手作業で行う ●キズがつきやすいため細心の注意が必要 ●充分に汚れが取れないことも ●有機溶剤を使用する...

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    メーカー・取り扱い企業: ソマックス株式会社

  • 小型CWレーザー Directシリーズ&Crystalシリーズ 製品画像

    小型CWレーザー Directシリーズ&Crystalシリーズ

    レーザー結晶と非線形光学結晶を組み合わせ、多彩な波長ラインナップを実現…

    品を展開しており、そのラインナップは、紫外~近赤外のほぼ全域を網羅しています。 特に、DPSSレーザーの「Crystalシリーズ」では、Nd:YAG、Nd:YLF、Nd:YVO4の結晶と非線形光学結晶を組み合わせ、他にはない波長のモデルもあります。 サイズは、従来品と比べて非常にコンパクトに設計されており、手のひらに乗ってしまうほどです。このため、レーザーを応用したシステムへの組み込み...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

  • ハイブリッドピコ秒レーザー 高ビーム品質 電光シリーズ 製品画像

    ハイブリッドピコ秒レーザー 高ビーム品質 電光シリーズ

    高ビーム品質( M2<1.2 )のピコ秒レーザー。高精細・高品質の加工…

    ■※本レーザーを用いたデモ加工にご対応します。※■ ✤ ビーム品質M²<1.2 ✤ 自社設計・自社生産の国産ピコ秒レーザー ✤ 光学部品の長寿命化により、ランニングコスト、ダウンタイムの最小化を実現 ✤ コンパクト設計・低価格 ✤ パルススプリットモード・マルチパルス機能選択可能 ✤ 繰り返し周波数のカスタマイズ可能 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

  • 小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ 製品画像

    小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ

    超コンパクト・高出力・高安定性・高信頼性~Crystalaser社のベ…

    高信頼性を兼ね備えいます。 ●本モデルは、半導体関連のプロセス装置へのOEM、組込使用実績もある信頼性の高い製品です。 ●Nd:YAG、Nd:YLF、Nd:YVO4のレーザー結晶と非線形光学結晶を組み合わせ、多彩な波長をラインナップしています。 ●簡単操作、プラグ&プレイ、冷却ファン/冷却水も不要、ノイズも無い使い易いレーザーです。 【発振波長 (nm) 】 262, 2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

  • 高出力ナノ秒パルス マイクロチップレーザー HiPoLas 製品画像

    高出力ナノ秒パルス マイクロチップレーザー HiPoLas

    超小型・高出力・高い耐環境性能~レーザー点火/着火、LIBS/LIPS…

    ロチップ高出力ナノ秒パルスレーザーです。 独自の完全モノリシック構造で高出力とタフネスを両立。コンパクトヘッドにも関わらずレーザーブレークダウンを生じるほど高出力です。 ヘッド内部に可動光学部品を持たないので振動にも強く、環境の温度変化に左右されません。 産業・フィールドでの使用を可能にする、まったく新しいレーザーです。 【特徴】 ●超コンパクト ●高出力(mJ) ●...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

  • レーザー・ファイバ融着機器 製品画像

    レーザー・ファイバ融着機器

    高出力・高感度な光学部品の製造向けに設計された汎用的な機器。CO₂レー…

    ファイバ径 80 µm to 2500 µm、スプライスロス < 0.1 dB。CO₂レーザーを使用した加熱によるクリーンで汚染のない融着が可能です。、ガラス加工ソリューションにも対応。 ※詳しくはお問い合わせください。...※詳しくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

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