『蛍光体ウェハーマッピング装置 YB4』

測定範囲最大4インチ！高速、高密度でのマッピングが可能な装置

『蛍光体ウェハーマッピング装置 YB4』は、透過光源による、高速、 高密度で蛍光体材料のマッピング評価を行うことができる装置です。 100×100mmエリア、もしくは最大4インチの測定が可能で、 オプションでLED光源（447.5nm標準）切り替えもできます。 また、角度依存性（直角45°）や透過率測定も可能です。 【特長】 ■最大4インチの測定が可能 ■オプションでLE...

メーカー・取り扱い企業： ユアサエレクトロニクス株式会社

アル株式会社　会社案内

グロバールなネットワークでお客様をサポート！ALUがお届けします

アル株式会社は、1990年、薄膜部品のレーザー加工分野をサポートする 技術商社として出発し、現在まで各種ウェハープロセス装置用の光源、互換部品、 部材、表面処理部品、計測及び測定機器、研究開発用スパッタリング装置を 輸入し、キーデバイスを製造する最前線のプロセス設計技術者のみなさんに お届して参りました。 今後とも進化し続けるニーズ、例えば製造現場のFA化、超微細加工、 センシン...

メーカー・取り扱い企業： アル株式会社 本社

平面形状測定装置『OptoFlat』

誰でも使える現場向きの使いやすさと、裏面反射キャンセルなどの高機能を両…

『OptoFlat』干渉計は、低コヒーレンス干渉原理を使用し、平面形状を裏面の影響を受けることなく簡単に測定することが可能です。LED光源のため電源ONで即時に測定可能な上、アライメント補助機構により、初めて干渉計を使う方でも操作が容易で即戦力として活躍します。 光学部品だけでなく、金属・セラミックス部品や金型の平面部など、幅広い用途でお使い頂けます。 ■裏面反射の低減（裏面キャンセル厚さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マブチ・エスアンドティー

DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266…

トプティカ社の深紫外半導体レーザーシステムはリソグラフィー、光学テスト＆検査、ホログラフィーを含む多くの要求の厳しいアプリケーションにとって理想的な単一周波数レーザー光源です。 本レーザシステムはFHG発生技術を用いて193nmまでのDUV波長をCW発振することが可能です。半導体レーザーをベースとしたオールソリッドデザインを採用することで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部