• 新型チルドタワー、常時チラー運転より約54%の年間電力費ダウン 製品画像

    新型チルドタワー、常時チラー運転より約54%の年間電力費ダウン

    PR生産プロセス、データセンター空調、DLCサーバーの冷却水用に 現行機よ…

    新型の機種は、「チルドタワー CTSーA075M」です。新型のカタログ請求はお問い合わせからご請求をお願いします。掲載のカタログは現行機種です。新型チルドタワーはチラーとドライクーラーを一体化させた構造で、春夏秋冬、朝昼夜の外気温度条件に適したハイブリッド運転を行います。必要な冷水温度(10℃~30℃)を設定すれば、省電力で安定した冷水を自動供給します。また、新型チルドタワーは、新冷凍サイクルでC...

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    メーカー・取り扱い企業: 桑名金属工業株式会社

  • アルミ製 水冷ヒートシンク「YCシリーズ」 製品画像

    アルミ製 水冷ヒートシンク「YCシリーズ」

    PRアルミ型材により成形しているため、銅製と比べ3~4割の低コスト化を実現…

    電気、電子機器に使用されている半導体素子(トランジスタ、CPU、IGBT 等)は、 動作中に冷却を行わないと素子から発生する熱のため素子そのものを破壊する場合があります。 ヒートシンクは、この熱をすばやく移動させ冷却することにより素子の破壊を防ぐ電子部品のラジエーターです。 冷却方法は、発生する熱により生じる空気の対流を利用した自然冷却と、ファンにより空気を強制的に対流させたり、水などの冷却媒...

    メーカー・取り扱い企業: LSIクーラー株式会社

  • 低温反応制御システム 冷やせる温度域:常温~-120℃ 製品画像

    低温反応制御システム 冷やせる温度域:常温~-120℃

    液化窒素の冷熱を利用して、 製薬合成等の化学合成環境を低温に保持するシ…

    液体窒素の冷熱(-196℃)を利用し、低温環境を実現します。 主に、原薬・中間体の低温合成プロセスで使用されます。 冷熱を利用する方法として、大きく分類すると、「間接冷却式」と「直接冷却式」の2種類がございます。 低温合成、低温反応、反応熱除去、暴走反応防止などにお使いいただいています。 プラントスケールからラボスケールまでお客様のニーズに合わせて幅広く対応...

    メーカー・取り扱い企業: 大陽日酸株式会社

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