注水式冷却ベスト『BODYCOOL SMART-X』

PRバッテリー・保冷材は不要！『水』のみを利用して体を冷却する環境にも配慮…

BODYCOOL SMART-Xは独自の気化熱冷却システムによってバッテリーや保冷剤を使用せず、体を長時間冷却できる新タイプの冷却ベストです。 使い方は簡単！ 背面のバルブから水（Max500ml）を注水し、製品全体になじませ、余分な水を排水して着用するだけ。 注水後すぐに効果を発揮し最長で72時間持続します。 【メリット】 ■ボディー全体を優しく冷却するため体に負荷をかけることなくパフォーマ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社スリーライク

PRP/HSR対応 冗長化装置RedBOX『RB304』

PR制御システム等における周辺装置のゼロ復旧時間を実現。 クリティカルな…

PRP/HSR(IEC62439-3）に対応していないデバイスも本製品と接続すれば、周辺装置をその冗長ネットワークに参加することが可能となります。 ＜PRP製品＞ 並列接続でLAN構成を二重化。 一方の回線が故障してもメッセージロスが生じません。 ＜HSR製品＞ LAN回線をリング構成とし、右回り・左回りに同じメッセージを伝達。 一方が故障してもメッセージロスが生じず、遅延も起...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リョウセイ

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社