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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR制御システム等における周辺装置のゼロ復旧時間を実現。 クリティカルな…
PRP/HSR(IEC62439-3)に対応していないデバイスも本製品と接続すれば、周辺装置をその冗長ネットワークに参加することが可能となります。 <PRP製品> 並列接続でLAN構成を二重化。 一方の回線が故障してもメッセージロスが生じません。 <HSR製品> LAN回線をリング構成とし、右回り・左回りに同じメッセージを伝達。 一方が故障してもメッセージロスが生じず、遅延も起...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リョウセイ
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シェフラーの自動潤滑装置CONCEPTシリーズを活用することで、軸受の…
廃棄物が削減されるので環境の保護に役立ち、かつ保守費用を削減 【CONCEPT2・CONCEPT4・CONCEPT8 自動潤滑装置 共通特長】 ■グリース・潤滑油による潤滑に好適 ■個別に制御できる潤滑油供給吐出口を装備 ■ピストンポンプは1作動で1回、グリースを吐出 軸受の約90%はグリースで潤滑されていますので、 適切な間隔かつ適正量のグリースにて再潤滑することで ころが...
メーカー・取り扱い企業: シェフラージャパン株式会社
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