『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温…

るエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームペー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

ジャケットヒーターシステム

PID制御でさらに温度均一性を保つ配管用ジャケットヒーター

半導体配管の最適化重要アイテム、ジャケットヒーターシステムです。 配管内の副生成物付着防止・供給ガスのヒーティングや 排気配管、ガス供給配管、バルブ、機器、除害装置配管の加熱用ヒーター 【特長】 ・200℃までの高温まで加熱可能 ・多重絶縁構造のアース付きフレキシブ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東京興業貿易商会 本社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

隔膜式真空計（バラトロン真空計）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

体製造プロセスに最適なバラトロン真空計 バラトロン631Bは、高温制御型真空計を10年以上にわたり供給してきたMKSの最新コンパクトモデルです。 センサ内部を高温に保持し、プロセス副生成物のセンサへの堆積を防止することにより、ドリフトを低減し精確で長期安定性を持つ圧力測定を実現します。 150℃もしくは200℃の温度制御を選択できる631Bは、メタルエッチング、ナイトライドC...

メーカー・取り扱い企業： 日本エム・ケー・エス株式会社