特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

小型レトルト釜『HLM-36EF』 ※FOOMA 2024に出展

PR全自動で加熱・調理・殺菌。 F値制御対応で設定簡単。 食品ロス対策…

『レトルト軒』は、レトルト食品に関する 加熱＆加圧・殺菌・冷却を全自動で行える小型レトルト釜です。 アルミパックや耐熱袋など、さまざまな包装材に対応し、 破袋やダメージを最小限に抑えるように加圧圧力の設定が可能。 F値の演算・制御に対応し、確実性が求められる殺菌作業が容易に行えます。 200V電源と給排水を設けるだけで、低コストに高圧蒸気を利用した 加熱調理が行なえ、添加物・防腐剤を使わない食...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社平山製作所

超親水性コーティング剤セルフェイスコート　MC1

超親水性を発揮できる、新しい親水性コート剤です。200℃環境下に長時間…

製品タイプ MC1（枝番なし）・・・工場製品加工用（要加熱乾燥） MC1-S170・・・工場製品加工用（要加熱乾燥） MC1-D50・・・工場/現場加工用（常温・要加熱乾燥） MC1-D50A・・・工場/現場加工用（常温・要加熱乾燥） 【その他...

メーカー・取り扱い企業： 丸昌産業株式会社

光触媒M−クリーン『M-610』

M-610は、加熱乾燥型の光触媒材料となります。

【その他特長】 ■外観：白色 ■液タイプ：アルコール溶剤系 ■主成分：酸化チタン・シリカ ■乾燥方法：加熱乾燥 ■乾燥時間：200℃×15分 ■乾燥後外観：透明 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 丸昌産業株式会社

超親水性コーティング剤セルフェイスコート　MC3

超親水性を発揮できる、新しい親水性コート剤です。硬度が高いため、繰り返…

製品タイプ MC3-X64・・・工場製品加工用（要加熱乾燥） MC3-X64-S7・・・工場製品厚膜加工用（要加熱乾燥） MC3-X65・・・工場製品加工用（要加熱乾燥） MC3-X66・・・工場/現場加工用（要加熱乾燥） MC3-X69Z・・...

メーカー・取り扱い企業： 丸昌産業株式会社

光触媒M−クリーン『M-85G』（５倍濃縮タイプ）

M-8Gの5倍濃縮液です。超微粒子・高分散タイプの光触媒を使用したガラ…

【その他特長】 ■外観：白黄色 ■液タイプ：水溶性 ■主成分：酸化チタン・シリカ ■乾燥方法：自然乾燥または過熱乾燥 ■初期乾燥時間（いずれか選択） 加熱乾燥：80℃×10分、100℃×7分、120℃×3分 自然乾燥：3時間以上（20℃雰囲気） ■完全乾燥：初期乾燥後　１週間 ■乾燥後外観：透明 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

メーカー・取り扱い企業： 丸昌産業株式会社