ケーブルベヤ 小形ROBOTRAX 【面ファスナー仕様追加】

PR新登場の"ブラケットホルダ"により、曲面のアームに…

『ROBOTRAX TKRB14H10』は、小形ロボットの ケーブル保護に好適なミニサイズのケーブルベヤです。 新たに追加した"ブラケットホルダ"は、面ファスナー仕様かつ様々な形状・サイズに沿うデザインです。 そのため曲面にもカンタンに固定できます。 サイズダウンしつつも、ケーブルの保護効果やカスタマーフレンドリな 設計といった基本性能をそのままに踏襲。 従来品のラインアップでは大きすぎて取...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社椿本チエイン　パワートランスミッション事業部門

材料開発DXを加速! 活用事例紹介ウェビナー開催＜無料＞

PR原子レベルのシミュレーションとマテリアルズ・インフォマティクス活用で材…

半導体や電子部品から日用品に至るまで、様々な材料開発において、原子･分子レベルでの設計が求められています。 シュレーディンガーの『Materials Science Suite』は、各種の原子・分子レベルのシミュレーションおよび機械学習により、材料開発を大幅に加速するソフトウェア・プラットフォームです。 さらに、データ駆動型アイデア創出プラットフォーム『LiveDesign』は、計算技術を活用...

メーカー・取り扱い企業： シュレーディンガー株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

独自技術HiTUSテクノロジー ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタリング装置

スパッタリング装置

固体表面にイオン化して加速した原子あるいは分子を衝突させることにより、固体表面から固体材料が飛び出してくる現象（スパッタリング）を利用した成膜装置です。高融点金属や合金材料、誘電体、絶縁材料にも適用できる為に、工業的利用価値...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 ＜特長＞ ■高速...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

ニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。 TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

メンテナンス・リサーチ株式会社　会社案内

真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

り扱い製品】 ○イオンビームエッチング ○イオンビームスパッタリング ○イオンスパッタリング ○インライン型スパッタリング装置 ○光学薄膜成膜装置 ○ガスクラスターイオンビーム装置 ○加速中性原子ビーム装置 ○円形スパッタリングカソード ○短形スパッタリングカソード ○シリンダー型スパッタリングカソード ○スパッタ用各種ターゲット ○高インパルススパッタ電源 ○アークプラ...

メーカー・取り扱い企業： メンテナンス･リサーチ株式会社