テガサイエンス株式会社 【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源
- 最終更新日:2023-12-22 13:25:41.0
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源
多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。
TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。
TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。
4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれぞれ独立したフラックスモニタリングプレートが備えられており、同時蒸着時には各ポケットの蒸着レートをモニターすることができます。
TAUソースは材料の材質により、ロッドまたはルツボから蒸着することができます。最適な蒸着方法をご提案いたしますので、お気軽にお問い合わせください。
基本情報【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源
【主な仕様】
最大パワー:250W(500W:オプション)
フラックスモニター:標準装備
蒸着材料:ロッド(最大直径4mmまたはルツボ)
冷却:水冷(1L/分)
価格情報 | 構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。 |
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納期 |
お問い合わせください
※構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。 |
型番・ブランド名 | TAUシリーズ |
用途/実績例 | 高融点材料の蒸着、高精度な膜厚制御、リフトオフプロセスなど |
ラインナップ
型番 | 概要 |
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TAU-S | 1ポケット、同時蒸着不可 |
TAU-4 | 4ポケット、同時蒸着可能 |
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