真空蒸着装置HEXシリーズ製品カタログ

HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。

六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで
自由自在にポートの数や配置を変更することができます。

そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを
組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を
行うことができます。

HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、
コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。

◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能
◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応
◆複数ソースによる同時成膜に対応
◆サンプル回転、加熱、水冷に対応
◆膜厚計を搭載可能
◆設置面積60cm x 60cmのコンパクト設計
◆優れた拡張性およびメンテナンス性
◆グローブボックス対応（リチウムイオン電池など）

詳しくは＜PDFダウンロード＞よりカタログをご覧ください。
ご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。
ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。

冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく、簡単に配管の取り付け／取り外しを行うことができます。Fissionソースは、蝶ナット4個でチャンバーに固定することができることから、取り付け／取り外しの際に工具を必要としません。

反応性スパッタにも対応するので、酸化物や窒化物の成膜も可能です。

HEXでは最大3台、HEX-Lでは最大6台の成膜ソースを取り付けることができるので、多層膜や化合物膜を成膜することが可能です。 （詳細を見る）

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。

抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に上昇すると、容器内の材料が蒸発し始めます。蒸着レートは電流によって制御することが可能です。

抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセスガスを使用しないことです。そのため高い真空度中で動作し、堆積した膜にほとんど不純物が含まれません。

TESソースは蝶ナット4個でチャンバーに固定されています。また、冷却水配管はクイックリリースコネクターにより接続されています。そのため、材料の補充やボート／フィラメントの交換を素早く行うことが可能です。

HEXでは最大5台、HEX-Lでは最大6台のTESソースを取り付けることができます。また、スパッタソースFission、電子ビーム蒸着源TAUおよび有機蒸着源ORCAと組み合わせて使用することができます。 （詳細を見る）

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。

TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。

TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。
4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれぞれ独立したフラックスモニタリングプレートが備えられており、同時蒸着時には各ポケットの蒸着レートをモニターすることができます。

TAUソースは材料の材質により、ロッドまたはルツボから蒸着することができます。最適な蒸着方法をご提案いたしますので、お気軽にお問い合わせください。 （詳細を見る）

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の有機蒸着源です。

ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバランスにより、優れた温度安定性と制御性を実現しています。

ルツボは熱伝導率の高い材質で作られていることから、蒸着レートに悪影響をおよぼすホットスポットが発生しません。アルミナ製やグラファイト製ライナーも用意されています。

ルツボの温度はKタイプ熱電対により測定されます。一般的な接触型熱電対よりも精度の高い温度測定が可能です。ORCAには電源ユニットと低温動作に最適化されたPIDコントローラーが付属します。

ORCAソースはスパッタソース、電子ビーム蒸着源および抵抗加熱蒸着源と組み合わせて使用することができます。ルツボ周囲は冷却された保護キャップに覆われており、隣接するソースからの熱干渉を最小限に抑えられています。 （詳細を見る）

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のサンプルステージです。

正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。

HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプルに対応します。標準の固定サンプルステージの他に、回転、回転加熱、回転水冷サンプルステージが用意されています。 （詳細を見る）

当社が取り扱う『モジュール式真空成膜装置』についてご紹介します。

一般的な真空装置の場合、KFポートやCFポートが溶接されていて、
システム導入後はポート配置は固定され、チャンバー構成を
変更することはできません。

当製品の場合、すべてのパネルは取り外して交換可能。
まさにブロックを組み立てるような要領で、さまざまな
チャンバー構成に変更することができます。

【優位性（一部）】
■コンパクト設計（実験台の上に設置可能）
■シンプルな操作性
■ポート配置、ポート数を変更可能
■高い拡張性（成膜ソースやアクセサリーの追加）
■単純なコーティングから多層膜まで多目的に利用可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）