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PRシングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…
『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設計のため、設置スペースとコストの削減に貢献します。 各種装置構成、薬液構成、目的とする洗浄性能やご予算など、 ニーズに応じて最適な装置構成をご提案可能です...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…
Siプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 GaAs用のホットプレートタイプに比べ高温(900~1000℃)まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)を非…
◎特徴 1.450℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 2.化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2~4in ウエハ ・Φ2~4inx1/4ウエハ ・Φ2~4inx1/2ウエハ ...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のSiウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温(1000℃)均一加熱 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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電子・半導体業界用!1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール
従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合…
00℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社米倉製作所
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電気炉の企画・設計・製造・販売なら当社にお任せください
当社は、化合物半導体、電子材料用の研究開発者向けの特殊な結晶合成や 熱処理向けの炉メーカーとして研究試作用電気炉を取り扱っております。 酸化膜用から乾燥用、酸素分圧制御用など幅広く取り揃えております。 ご...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社マテルズ 本社工場
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