メタルシール採用事例：半導体製造用化学物質キャニスター

PR樹脂製やエラストマー製のシール材質が使えない物質に朗報！メタルシールを…

当社の「HELICOFLEX デルタシール」が化学会社のキャニスター用 シールに採用された事例をご紹介いたします。 化学会社のキャニスター用シールの仕様は、真空と正圧の両方を ヘリウムリークタイトできる信頼性と、耐久性に優れることなので、 樹脂製やエラストマー性の採用はできませんでした。 採用後は、ヘリウムリークタイトを実現し、通常よりも設計締付圧力が 低いことによりボルト荷重が下がり、スペー...

メーカー・取り扱い企業： テクネティクス・グループ・ジャパン株式会社

【悪臭対策】半永久的に使用可能な自浄再生脱臭するセラミック

PR半永久的寿命を維持！吸収物質を強力分解し、常に安定した浄化能力を保持・…

『セラダイナミックス』は、空調ダクトや排ガスダクトに設置するだけで、 悪臭、油ミスト、有機溶剤を強力に吸着、分解、無害化し、悪臭防止法、 PRTR、近隣対策ができる自己再生脱臭セラミックです。 セラミックス自体は消耗することなく「分解反応」を発揮し続け、低濃度から 高濃度まで環境規制値を容易にクリアー。 制菌、除菌、静菌などのHACCP（危害分析重要管理点）にも対応します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ファインセラ

【環境装置納入事例】PO除去装置

充填高さは3.7m！酸化プロピレンを除去対象物質とした環境装置納入事例…

イーテクノが行った、PO除去装置の納入事例をご紹介します。 処理ガス量は25Nm3/min、ガス温度は70℃、酸化プロピレンを 除去対象物質としています。 充填高さは3.7mで、入口濃度は43,693ppm、出口濃度は 2,185ppmとなっています。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計・設置機器：PO除去装置　E730シリーズ ■処理ガス量：25Nm3/min ■...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】予冷塔＋ベンチュリ―スクラバー(2)

処理ガス量は4568Nm3／h！気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、…

イーテクノが行った、予冷塔＋ベンチュリ―スクラバーの納入事例を ご紹介します。 処理ガス量は4568Nm3／h、温度は60.4℃、白色顔料粉塵を除去対象物質とし、 ばいじん0.2g／Nm3→0.01g／Nm3以下となりました。 気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、ヒューム除去。 循環液中の粒子は沈殿させ回収させます。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計・設置機器：予...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】イソプロピルアルコール除去塔

処理ガス濃度は9300ppm！設計除去率80～90％のイソプロピルアル…

イーテクノが行った、イソプロピルアルコール除去塔の納入事例を ご紹介します。 IPAを除去対象物質とし、処理ガス量20m3/min、供給水温はMax.28℃、 処理ガス濃度は9300ppmです。 吸収液は水で、設計除去率は80～90％となります。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計・設置機器：イソプロピルアルコール除去塔　EHCUシリーズ ■処理ガス量：20m3/mi...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】粉塵除去塔

処理ガス量70Nm3/hx 2系列！フィルター手前での粗取りが80％の…

イーテクノが行った、粉塵除去塔の納入事例をご紹介します。 洗浄液は水で、フィルター手前での粗取りが80％の設計除去率。 除去対象物質は、粉塵、酸性ガスを含み、粒子径は1μm～40μmですが、 10μm以上のものが85％以上となります。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計・設置機器：粉塵除去塔　EHCUシリーズ ■処理ガス量：70Nm3/hx 2系列 ■除去対象物質：粉...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【納入事例】予冷塔＋ベンチュリ―＋デミスター塔＋充填塔×2基

酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g／Nm…

イーテクノが行った、予冷塔＋ベンチュリ―＋デミスター塔＋充填塔×2基 の納入事例をご紹介します。 気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、ヒューム、除去し、苛性ソーダ水溶液を 液PH制御にて、注入して酢酸吸収。 除去対象物質の酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g／Nm3 →0.1g／Nm3以下となりました。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社