新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

可視域ファイバレーザー & アンプ『ALS-VIS』

PR要求の厳しい用途に対応する産業用グレードの性能

・最大10Wの高出力 ・超低強度ノイズ ・高いビームポインティング安定性 ＆ 安定したビーム品質 ・ターンキー、メンテナンスフリーの信頼のあるシステム...半導体産業における高性能計測などの産業アプリケーションや量子コンピューティングのアプリケーションには、極めて安定した信頼性の高い高出力レーザー光源が必要です。 ALS-VISシリーズは革新的なファイバー技術をベースにしたレーザーとアンプで、特...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

超小型オゾン水分解装置『OZK-ISC001』

紫外線照射式＋活性炭式でオゾンを分解。半導体や液晶製造プロセスで活躍

分解塔下部のIN側から入り塔内に溜められたオゾン水に溶解しているオゾンを 紫外線ランプ（254nm）の光で分解。さらに、分解塔の後段に設置した 活性炭槽でオゾンの分解を促進します。 半導体や液晶製造プロセスで活躍する製品です。 【標準仕様】 分解原理：紫外線照射式＋活性炭式 分解対象液：純オゾン水 分解液温度：20～50℃（周囲温度：15～40℃、90％RH以下） 使...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アプリクス

【導入事例】オゾンガス発生器

ウイルス・カビのオゾンガス除菌・脱臭。コンパクトで持ち運びが便利。高濃…

【オゾンガスモニタ導入先業界】 ○半導体用装置メーカー →半導体工場で使用されるオゾン水及び洗浄機に搭載されています。 ○環境機器メーカー →環境用の医療機器、研究施設向けオゾン殺菌装置に搭載されています。 ○食品メーカー →...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アプリクス