【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

工場保全・メンテナンス、生産技術者のための工場工事【事例集進呈】

PRコンベアや空調などの機械設備の保全実績10点をまとめた事例集を進呈！お…

三重県を中心に、製造業や工場向けに幅広く機械設備や営繕工事、部品加工などの実績が多数ある酒重が、コンベアや空調などの機械設備の保全実績10点をまとめた事例集を進呈中！対応可能な施工サービス一覧や食品・繊維・半導体業界などでの製作実績について詳しく掲載。 また、機械設備の施工実績が多数ある酒重だからこそわかる、「ポンプ選定時に確認すべき7つのポイント」も併せて進呈中です！ 工場工事・修理メンテナン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社酒重

精密研磨装置『MA-150』

小さい試料を研磨する際に好適！1つの目的に対して1台を使用できるように…

機でSEM、EPMA、 TEM等の横に設置し、1つの目的に対して1台を使用できるように 設計開発されております。 小型でスペースを占有しないため、小さい試料を研磨する際に適しており、 半導体ウェハー、サファイア、SiC、ガラス、セラミックスなどの研磨が可能。 試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られます。 【特長】 ■パーソナルタイプの研磨機 ...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

精密研磨装置『MA-300e』

インターロックカバーもご用意！研磨作業の更なる効率化を実現しました

【加工実績のある材料例】 ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、窒化ガリウム、酸化ガリウム、カドミウムテルル …など...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

精密研磨装置『MA-200』

エッジのダレが無く、介在物の脱落も無いためEPMA等での評価に適してい…

【加工実績のある材料例】 ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、窒化ガリウム、酸化ガリウム、カドミウムテルル …など...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

精密研磨用 試料ホルダー

真空チャック式ホルダーや貼付けホルダーなど、豊富なラインアップをご用意…

けホルダー ■ストッパー付きホルダー ■偏荷重ホルダー ■多目的ホルダー ■埋め込み試料ホルダー ■挟み付けホルダー ■簡易型2軸ゴニオホルダー ■セラミック製ガイドリング ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、窒化ガリウム、酸化ガリウム、カドミウムテルル …など...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

『ムサシノ電子株式会社　総合カタログ』

高精度・高効率性を追求した研磨技術！精密研磨装置の総合カタログをプレゼ…

【その他の掲載製品】 ■研磨剤 ■実験用精密スクライバー ■精密ブレード切断機 ■ダイヤモンドワイヤーソー ■キャプスタンソー 【加工実績のある材料例】 ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、窒化ガリウム、酸化ガリウム、カドミウムテルル …など...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

実験用精密スクライバー『SC-100/SC-150』

断面観察用試料が精密かつ容易に作成可能！試料を直接手で触れたり、押さえ…

【構成仕様（一部）】 ■適用試料：半導体ウェハー、サファイア、 SiC、ガラス、セラミックス等 ■試料サイズ：最大φ100mm（SC-150の場合φ150mm） ■試料取付け方法：真空チャック式 ■ステージ移動：X方向＝100mm...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

精密研磨装置『MA-400e』

主軸に高精度アンギュラベアリングを採用！基準テーブル上で±10μm以内…

【加工実績のある材料例】 ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、窒化ガリウム、酸化ガリウム、カドミウムテルル …など...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

精密研磨装置『MA-200e』

研究開発用の試料作製に好適！振動と騒音を大幅に抑えることに成功しました

【加工実績のある材料例】 ■半導体材料(シリコン、ゲルマニウム、炭化ケイ素、珪化ストロンチウム、ガリウム砒素、インジウムガリウムヒ素、インジウムリン、酸化インジウムガリウム亜鉛、窒化ガリウム、酸化ガリウム、カドミウムテルル …など...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社