【部品表管理導入事例】京セラ株式会社　様

PR工場内に散在していた製造関連情報を一元化！グローバルでのコンカレントエ…

卓越した技術力を有し、日本を代表する総合メーカーとして知られる京セラ様。 グループ従業員数は8万人を超え、連結売上高は2兆円以上。その事業領域は幅広く、ファインセラミックスをはじめ、半導体部品や電子部品、ケミカル材料、車載カメラやエネルギーシステムなどをグローバルに展開されています。 そんな京セラ様の技術力を支える拠点の1つが鹿児島川内工場です。 同拠点で進められているコンカレントエ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ソリューションズ西日本

【視線の可視化・DX】ものづくり現場アイトラッキング活用術！

PRベテラン技術を見える化・データ化し、継承するスマートグラス。ヒューマン…

アイトラッキンググラス『Eye Tracking Core＋』は、人の眼球の動きを追跡・可視化し、 様々な角度から分析する事ができるメガネ型のデバイスです。 製造業を中心に、国内実績１００ユーザーを超え、幅広い分野で活用されています！ 技能継承の課題の一つとして挙げられる"技能の「見える化」"について、このアイトラッカーを活用して、 積極的に取り組まれている弊社ユーザー様事例をご紹介。 特に、...

メーカー・取り扱い企業： SiB株式会社

セントロサーム　超高温バルクアニール炉

超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…

ワイドバンドギャップ半導体デバイスの歩留まりを向上するためには、応力に起因する欠陥や転位を最小限に抑える必要があります。その手法の一つとして、半導体結晶の超高温熱処理があります。c.CRYSCOO HTA高温アニール炉は、ワイドバンドギャップ半導体のバルク結晶からデバイスまでのバリューチェーンにおいて生産性を大幅に改善させるために開発されました。優れた温度制御(最高温度2200℃)、均一性、低クロ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

Agnitron社 研究開発(R&D)～量産用 MOCVD装置

Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物…

Agnitron社のAgilisシリーズは、先端化合物半導体エピ成長を可能にする構成オプションを備えた柔軟なプラットフォームです。研究開発用(R&D用)の小型チャンバではシングル又はデュアルチャンバ構成選択可能、量産機用の大型チャンバではシングルチャンバ構成にて幅広い材料のエピ成長が可能です。...Agnitron Technology社（アメリカ）は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

セントロサーム　真空はんだリフロー炉

ボイドレス、フラックスレスリフローに対応したバッチ式の真空リフロー炉で…

従来の常圧リフローでは、はんだ内に残るボイド領域が20%程度あるため、接合強度の劣化を招きます。セントロサーム社（ドイツ）のバッチ式真空リフロー炉「c.VACUNITEシリーズ」は、真空を用いることでボイド領域を2％未満に低減することが可能です。また、100%水素やギ酸などの還元効果ガスを用いることで、フラックスレスリフローに対応可能です。オプションとして、MWプラズマを用いた接合表面のプラズマク...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

SAMTEC ボード to ボードコネクタ SEARAYシリーズ

VITA規格(FMC,XMCなど)対応, 各FPGAメーカーの標準採用…

【製品概要】 超高密度、高速オープンピンフィールドアレイ構造の製品になります。 56 Gbps PAM4までのアプリケーションをサポートします。 【特長】 ・0.8ｍｍピッチ品は最大500Pin, 勘合高さ7ｍｍと10ｍｍをサポート、1.27ｍｍピッチ品は最大500Pin, 勘合高さ7ｍｍから18.5ｍｍをサポートいたします。 ・NVIDIA社などの標準採用されており、画像処理機器、...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER　MBEセル（蒸着源）

MBEセル（蒸着源、分子線セル）はエピタキシャル膜の品質において重要で…

分子線を作り出すMBEセルは、エピタキシャル膜の品質（均一性・組成・純度・モフォロジーなど）を左右する最も重要なコンポーネントです。RIBER社では、材料特性や用途に合わせて豊富なラインナップを用意しています。RIBERオリジナル装置のみならず、ありとあらゆるMBE装置の仕様に合わせてカスタマイズ提案が可能です。 ・標準型クヌーセンセル ・ヒ素、リン、アンチモン向けバルブドクラッカーセル ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社