半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

＜主な特徴＞ ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 ＜多様な物理モデルや機能＞ ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数（１次、２次のグレーティング） ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■２次グレーテ...

メーカー・取り扱い企業： クロスライトソフトウェアインク日本支社

解説資料『コイル巻線の品質を左右するテンション管理の秘訣』

PRコイル巻線のテンションについて基本的な考え方や管理方法などを解説。適切…

コイル巻線のテンション管理は、コイル品質や製品性能を左右する重要な要素です。 適切なテンションを維持することで、以下の様々なメリットが期待できます。 ◎巻線整列性 　巻線の層が均一に整列し、隙間や重なりを抑えることが可能 ◎電気特性の安定性 　インダクタンスや抵抗値などの電気特性が安定し、製品性能が向上 ◎機械的強度の確保 　巻線がしっかりと固定されることで振動・衝撃に対する耐久性が向上 ◎製造...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プロネック

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER　MBEセル（蒸着源）

MBEセル（蒸着源、分子線セル）はエピタキシャル膜の品質において重要で…

分子線を作り出すMBEセルは、エピタキシャル膜の品質（均一性・組成・純度・モフォロジーなど）を左右する最も重要なコンポーネントです。RIBER社では、材料特性や用途に合わせて豊富なラインナップを用意しています。RIBERオリジナル装置のみならず、ありとあらゆるMBE装置の仕様に合わせてカスタマイズ提案が可能です。 ・標準型クヌーセンセル ・ヒ素、リン、アンチモン向けバルブドクラッカーセル ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社