• 1D CAE による熱設計向けシミュレーション【解説資料を進呈】 製品画像

    1D CAE による熱設計向けシミュレーション【解説資料を進呈】

    PR構想設計など設計上流段階で有効な1D CAEを活用した熱解析を行うメリ…

    製品開発に対する要求が複雑化、高度化する中、 設計の上流段階における解析技術を用いたより緻密な設計が重要になっています。 1D CAE はそれを強力に支援する手法です。 メイプルソフトの提供するソフトウェア「MapleSim」および「MapleSim Heat Transfer Library」は 1D CAEを熱設計に適用することをサポートします。 【このような方におススメの資料です】 ◆幅...

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    メーカー・取り扱い企業: Maplesoft Japan株式会社

  • スリーピースの脈流が少ないギアポンプ 製品画像

    スリーピースの脈流が少ないギアポンプ

    PR新食品衛生法適合ポンプ!小型軽量で最大0.2MPaの吐出圧力性能を保持…

    2020年施行の新食品衛生法に適合した、脈流が少ないギアポンプです。 小型軽量でありながら最大0.2MPaという吐出圧力性能を持っています。 プラスチックで成型することにより、耐薬品性向上やコストダウンに成功しました。 ギアポンプにつきましては、お客様のご希望に合わせたカスタム対応をメインに設計、製造、販売させていただいております。 ご希望の流量や吐出圧、使用する液体の種類やポンプの運転D...

    メーカー・取り扱い企業: スリーピース株式会社 営業部

  • 【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 100 製品画像

    【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 100

    低臭気で、室温下で使用可能!メタルマスク、スクリーン向け クリーム半田…

    100』は、防爆仕様スプレー式洗浄機にてメタルマスクから クリーム半田除去用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。 フラックスの種類によって、印刷ミス基板にも使用することが可能。 さらに、印刷機での裏拭きや手拭き洗浄にも使用できます。 また、当製品はメタルマスクプリンターでの使用が世界の 主要メーカーによって承認されています。 【特長】 ■コンタミ保持量が高いので、長寿命...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【メタルマスク向け水系洗浄剤】HYDRON SC 300 製品画像

    【メタルマスク向け水系洗浄剤】HYDRON SC 300

    引火点を持たない水系洗浄剤のため、洗浄装置に防爆仕様が不要!

    た水系洗浄剤です。 クリーム半田やSMT ボンドを常温にて確実に除去し、 メタルマスク表面上に残渣を残しません。 また、洗浄およびリンス工程にて使用可能で、洗浄剤残渣なく乾燥し、 印刷機の裏拭きにも使用できます。 【特長】 ■クリーム半田や接着剤洗浄に優れた効果を発揮し、残渣を残さない ■洗浄およびリンス工程にてご使用可能 ■メタルマスクに残渣を残さず乾燥する ■ス...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

  • 【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 301 製品画像

    【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 301

    高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減!

    リーム半田・SMT 接着剤・厚膜ペースト除去用 の溶剤系洗浄剤です。 速乾性があり、洗浄工程の短縮ができます。また、印刷ミス基板の 洗浄にも効果的です。 高引火点のため手拭き洗浄や印刷機での裏拭きにも使用可能です。 【特長】 ■フラックス残渣を除去することが可能 ■高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減 ■乾燥が非常に速いため、洗浄工程を短縮することが可...

    メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社

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