第三の光加熱源！LEDアニール装置

PR加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

表面処理・バレルメッキ装置『スーパーバレル』※導入事例進呈

PR微細精密部品のバレルメッキに。豊富な製品仕様で蓋への挟まり不良など様々…

『スーパーバレル』は、精密部品（電気・半導体部品）にも 均一かつ密着性に優れた高品質なメッキ処理が行えるバレルメッキ装置です。 独自の蓋開閉機構により極小・極薄部品でも蓋への挟まりを起こしにくく、 内面への付着・引っかかりも防止。高いメッキ効率を維持しつつ、不良率の改善に貢献します。 超小型実験用、手動式モーター搭載型、自動機型などをラインアップ。 標準サイズでの提供はもちろん、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社共和機器製作所

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所