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『アルマイト処理／加工』※アルマイト処理に関する技術資料を進呈
PR当社の高精度なアルマイト処理技術により、 アルミニウム製品へアルマイ…
試作から量産まで、幅広いご要望に対応いたします。 【特長】 ■耐食性・耐摩耗性・熱放射性などの特性が向上 ■高い電気絶縁性 ■シュウ酸アルマイトは、硫酸アルマイトに比べて表面の粗化を抑制 また、高Ｓｉ含有のアルミダイカスト部品に対し膜厚均一性が高い ■低反射率化（光学機器・センサー等で不要な反射を抑制） ■抗菌作用の付与 ■アルマイト条件を高精度に管理することで、 膜厚・皮膜...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社豊田電研
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化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…
Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...横型石英管...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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卓上ホットプレート 2モデル ＜250℃仕様/350℃仕様＞
コンパクトでありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。
ホットプレートの性能は、フォトリソグラフィープロセスの精度を決める重要なファクターです。 特に、膜厚・線幅・膜質の高い均一性が要求される先端プロセスや、 温度依存性の高い材料でのプロセス開発においては、 ホットプレートの性能が、プロセスパフォーマンスを見極める大きな要因となります。 タイマー制御のピンアップ機構により、正確な時間管理を実現。 ウェーハ間の均一な熱処理を可能にしまし...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社 SCREEN SPEサービス
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大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…
水素の還元力を最大限に活用し従来に無い薄膜・基板表面の高品位化を実現 デリケートな化合物デバイスや誘電体基板の熱処理（べーく・アニール）に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...６インチウェハ対応の石英管の横型...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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700～900℃の加熱が可能！金反射膜によって、高いエネルギー密度効率…
薄板ガラスのリヒート成形にはプレス成形機が用いられますが、まず問題に なるのは板ガラスの加熱で、成形可能な温度とされる約700℃まで加熱する 必要があります。 エクセリタスノーブルライト（旧ヘレウスノーブルライト）では、 金属・ガラス加熱において、オープンスペースで700～900℃の 加熱が可能。 お客様のプロセスおよび設置スペースに合わせて高出力赤外線ユニットの 設計・ご提案ができます。 ...
メーカー・取り扱い企業： エクセリタスノーブルライトジャパン（旧ヘレウスノーブルライトジャパン）株式会社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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