特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

基板分割機【卓上型でコンパクト＆きれいな切断面】

PR基板の外形加工をルーターカット方式で行える卓上型の基板分割機です。集塵…

基板の外形加工をルーターカット方式で行える卓上型の基板分割機です。 上方式、下方式と2タイプの集塵方式をご用意。 【主な特長】 ■集塵機の設置が不要でイニシャルコスト削減 ■卓上型で省スペースを実現 ■高性能ロボットのCP制御で曲線・直線のカットも可能 ■基板へのストレスが少なく、きれいな切断面を実現 ■＝＝下方集塵式の新機能＝＝ 　・ルータビット数倍長持ち 　・スピンドルモ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジャノメ

金属イオン溶出の無い自動着脱装置（コネクタ）

金属イオン溶出が許されないラインを自動化します！

工程以降のラインに最適です。また、弁ボディとノズルの材質がPVCのため、接液部分に金属はなく、プロセス流体への金属イオンの溶出がありません。強酸を使うラインや、半導体業界で使用されるウェハ洗浄液や、基板コート剤などの薬品を対象とした設備への導入が可能です。 ご要望のサイズや、特殊仕様がございましたらオーダーメイドで設計・試験・製作致しますのでお問合せ下さい。 また、弁単体だけでなく自動...

メーカー・取り扱い企業： ナブテスコサービス株式会社 産業機械部　

【半導体業界向け】金属イオン溶出の無い自動着脱装置

金属イオン溶出の無い自動着脱用コネクタ（特許技術）を用いてウェハ洗浄液…

電子材料製造工場で、原料ラインから移動槽間と、移動槽から充填機への間の基板の洗浄液投入作業を自動化しました。 接液部がすべてPTFEの自動着脱コネクタ（カプラ）を開発し、金属イオンの溶出を0にしました。 また、内弁がPTFE一体成形のため洗浄性が非常に高いです。 ※...

メーカー・取り扱い企業： ナブテスコサービス株式会社 産業機械部　

金属溶出無し！PTFE制自動着脱弁【ALL-PTFEコネクタ】

高い洗浄性！内部構造が非常にシンプルで流体の滞留部がない！金属溶出がな…

久性）と小型・軽量化を追及した製品です。 また、内弁を含めて弁内の全ての接液部の部品はPTFE で構成されている為、プロセス流体への金属イオンの溶出が無いので、半導体分野で使用されるウェハ洗浄液や基板コート剤などの薬品を対象とした設備への導入が可能です。 ■ナブテスコサービスのALL-PTFEコネクタの特長 高い洗浄性⇒内部構造が非常にシンプルで流体の滞留部がありません。 軸部局所ＳＩ...

メーカー・取り扱い企業： ナブテスコサービス株式会社 産業機械部