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\JPCAショー2024出展/プリント基板、明日発送します!
PR6/12~14開催!JPCAショー2024に出展いたします!先駆けて納…
明日にでも基板がほしい、そんな経験はございませんか? 松和産業の一番の強みはなんといっても超短納期対応。 貫通基板はもちろん、ビルドアップ基板・FPC基板・リジッドFPC基板まで!業界最速レベルでお届けいたします! 2層〜10層貫通基板 最短1.05日! 貫通樹脂埋め基板 最短2.1日! 1-2-1ビルドアップ基板 最短3日! 1層・2層 FPC基板 最短2日! 4層リジッド...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社松和産業 本社
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特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置
PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…
『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販
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浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…
『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます
『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!
『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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