• 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像

    【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃ 製品画像

    BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

    【UHV対応 真空薄膜実験用 面状加熱ヒーター】 大学・研究機関のお…

    3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)、豊富なヒーター素線バリエーション(Kanthal, Graphite, C/C Composite, SiC coating, W)、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 【特徴】 ● 予備ヒーター素線との交換が容易 ● 取り扱いが簡単(M6スタッドボルト、支柱) 【標準付属品】 ● 熱電対:K素線タイプ アルミナ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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