独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

【デモ機貸出可】ポリイミド静電チャック

クリーン度の維持に貢献！半導体製造装置やディスプレイ製造装置等に採用さ…

『ポリイミド静電チャック』は、摩耗によるパーティクルの発生が少なく、 可動部が無いことから、クリーン度の維持に貢献します。 薄い製品や変形しやすい製品に、ストレスを与えずに把持することができ、 ウェハやガラスなどの搬送用に使用する場合、1W以下の電力で使用可能。 また、把持力は大気中だけでなく、真空中でも発現します。 大気と真空プロセスを併用する設備でもご採用頂いております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブテクノロジー