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工業用高精細レンズシリーズ『ZEISS Dimension』
PR4/3型の大型エリアセンサに対応。超高分解能で細部まで高精細な画像を撮…
工業用高精細レンズシリーズ『ZEISS Dimension』は、 最大4/3型のイメージセンサー用に設計されており、2μmの分解能を実現。 広角レンズでもディストーションの発生が極小で、 基板実装や大判印刷物の検査・画像計測などに活躍します。 「Pregius S」技術を搭載した、第4世代SONY CMOSセンサ (ピクセルピッチ2.74μmの1.2型25MPセンサ)にも対応して...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケンコー・トキナー 本社
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PR切断をはじめ、ポリッシング、積層などの工程をご紹介!当社の受託加工のご…
脆性材の端面ポリッシング、および、端面塗布の受託加工をご案内 ショーダテクトロンでは、脆性材加工用機械装置の技術を活かして、矩形、円形、その他形状の硝材の端面ポリッシング加工、および自由形状の端面樹脂塗布の加工を受託致します。また、端面研磨に関しましては、協力工場を通して、インゴットご支給からのスライス、芯出し、端面研磨といった一貫した加工も承ります。 試作品や小ロットの加工をお考えでしたら、...
メーカー・取り扱い企業: ショーダテクトロン株式会社
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Φ600mm円形サンプルから大型パネルの研磨まで
『MA-600e RECT』は大型のパネル型サンプル(ガラス/ サファイア等)の表面研磨に最適です。 上部揺動ユニットのフレキシブルパッドにてサンプル表面を一様に研磨することが可能です。 【特長】 ●大径サンプルの研磨に最適 Φ600mm のステージにサンプルを固定することで大径サンプルの全面を研磨可能です。 サンプルはΦ600mm のSUS プレートに熱ワックス等でサンプルを接着し、プレートを...
メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社
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試料にダメージを与えず高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置
大型基板の処理にも対応。試料にダメージを与えず 高度な洗浄を可能にした、卓上型UV照射装置 【特徴】 ○最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基板(試料)にUV照射を行い 表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが可能 ○基板(試料)ホルダーの上下、または取替えが容易なため 厚みのある基板(試料)を処理することが可能 ○オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メープル
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基板の手配、マスク設計からの一貫生産の対応が可能!グローバルネット株式…
グローバルネット株式会社では、GNCの加工ファンドリーをはじめ、 GNCパターンウエハサービス等を提供しています。 シリコンウエハ、ガラスなどを主に、お客様のニーズに応じた 加工サービスを提供。 基板の手配、マスク設計からの一貫生産の対応が可能です。 【事業概要】 ■GNCの加工ファンドリー ・成膜ファンドリー ・プロセス評価 ■GNCパターンウエハサービス ・GN...
メーカー・取り扱い企業: グローバルネット株式会社
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