• 希釈精度”±0.2%”でクーラント液を送液!クーラント希釈装置 製品画像

    希釈精度”±0.2%”でクーラント液を送液!クーラント希釈装置

    PR設定した濃度でクーラント液を自動送液!ムラを低減し加工品質の安定に貢献…

    『MX-600C』は、設定した濃度でクーラント液を自動送液できる クーラント自動希釈装置です。 工作機械の加工で欠かせないクーラント液は、 人の手による混合も多く、そのムラが加工不良につながる可能性もございます。 当社の装置では、供給される工水の量に応じて 設定された濃度になるよう油を攪拌させながら自動供給を行います。 精度の高い流量計を用いて管理するので希釈制度は設定値±0.2%で供給が可...

    メーカー・取り扱い企業: リックステクノ株式会社

  • 特許取得!臭気対策消臭剤『デオマジック』<サンプル進呈> 製品画像

    特許取得!臭気対策消臭剤『デオマジック』<サンプル進呈>

    PR不快なニオイを良い香りに“変化”させる、特許技術を用いた消臭剤。5月の…

    臭気対策消臭剤『デオマジック-S』は、 悪臭を化学的に分解したり強い香りで隠したりするのではなく、 不快な臭い成分を取り込んで良い香りに変化させる消臭剤です。 希釈して空間などに噴霧するだけで、効果的な悪臭対策が可能です。 産廃処理場、下水処理場、工場、ゴミ焼却場、製紙工場、 バイオマス発電所など、様々な現場で採用されています。 【製品概要】 ■成分:水、エチルアルコール、香...

    メーカー・取り扱い企業: シキボウ株式会社

  • LiB電極スラリー製造方法「CDMプロセス」のご提案 製品画像

    LiB電極スラリー製造方法「CDMプロセス」のご提案

    スラリーの粒子分散方法に関して、固練り方法→CDMプロセス(特許取得済…

    固練り法の工程 ハイビスディスパーミックスなどの混練機を使用します。一般的な工程は、粉体原料を全量投入→液体原料を少しずつ投入→そぼろ~団子状になったところで混錬→さらに液体原料を少しずつ投入して希釈→粘度調整および脱気を行います。 <固練り法の問題点> ・1,000Lクラスが最大級 ・1バッチに5~10時間かかる ・再現性が低い ■CDMプロセスの工程 上記混錬機にて5~10時...

    メーカー・取り扱い企業: プライミクス株式会社

  • 連続ナノ医薬製造装置 製品画像

    連続ナノ医薬製造装置

    FDAも導入!PAT搭載し今まで困難だった均一サイズのナノ医薬を連続で…

    Foundation のSBIR プログラム Phase Iに選定。 50~500nm以上の均一ナノ粒子を連続で最大100mL/min以上で大量生産。 TFFユニットによりナノ粒子濃縮と有機溶剤希釈の機能を付与。 リポソームのアクティブローディングで99%以上の充填率。 従来の装置では不可能だったラボレベルから大量生産までのスケールアップが可能。 製造したリポソームへの結晶注入、表面修飾...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • ホモジナイザ SH-2M 製品画像

    ホモジナイザ SH-2M

    安心・信頼の日本製 破砕力抜群のホモジナイザ

    使用方法 1. 電源をつける 2. ドアを開け、検体と希釈液を入れたホモジナイズ用袋をセットします。 3. ドアを閉め、操作パネルのスイッチを押すとホモジナイズ開始します。  15秒、30秒、60秒のタイマーがあり自動的に停止します。連続運転も可(最大...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エルメックス

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