• 水溶液比例混合装置『ドーサトロン』 製品画像

    水溶液比例混合装置『ドーサトロン』

    PR液体を正確に!簡単に!希釈します! 電気工事不要、エアーも不要、水配…

    現在、洗浄剤、消臭剤、殺菌剤、水溶性切削油、離型剤など様々な用途で使用されている『ドーサトロン』。 『ドーサトロン』は、電気やエアーを必要とせず、水道水の圧力だけで作動する水溶液比例混合装置です。 薬液を一定の比率で自動的に混合し、配合液を連続的に排出。 水圧、流量が変化しても一定の比率で混合します。 また当製品は、低圧・弱流量でも機能します。 4メートルの高さまで吸入可能で...

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    メーカー・取り扱い企業: 富永物産株式会社

  • 法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』 製品画像

    法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』

    PR『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…

    「地球」を考える「化学」の時代。AGCが提案する新製品!フッ素系溶剤『AMOLEA(アモレア)AS-300』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数(GWP)1未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…KB値48の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • LiB電極スラリー製造方法「CDMプロセス」のご提案 製品画像

    LiB電極スラリー製造方法「CDMプロセス」のご提案

    スラリーの粒子分散方法に関して、固練り方法→CDMプロセス(特許取得済…

    固練り法の工程 ハイビスディスパーミックスなどの混練機を使用します。一般的な工程は、粉体原料を全量投入→液体原料を少しずつ投入→そぼろ~団子状になったところで混錬→さらに液体原料を少しずつ投入して希釈→粘度調整および脱気を行います。 <固練り法の問題点> ・1,000Lクラスが最大級 ・1バッチに5~10時間かかる ・再現性が低い ■CDMプロセスの工程 上記混錬機にて5~10時...

    メーカー・取り扱い企業: プライミクス株式会社

  • 連続ナノ医薬製造装置 製品画像

    連続ナノ医薬製造装置

    FDAも導入!PAT搭載し今まで困難だった均一サイズのナノ医薬を連続で…

    Foundation のSBIR プログラム Phase Iに選定。 50~500nm以上の均一ナノ粒子を連続で最大100mL/min以上で大量生産。 TFFユニットによりナノ粒子濃縮と有機溶剤希釈の機能を付与。 リポソームのアクティブローディングで99%以上の充填率。 従来の装置では不可能だったラボレベルから大量生産までのスケールアップが可能。 製造したリポソームへの結晶注入、表面修飾...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー

  • ホモジナイザ SH-2M 製品画像

    ホモジナイザ SH-2M

    安心・信頼の日本製 破砕力抜群のホモジナイザ

    使用方法 1. 電源をつける 2. ドアを開け、検体と希釈液を入れたホモジナイズ用袋をセットします。 3. ドアを閉め、操作パネルのスイッチを押すとホモジナイズ開始します。  15秒、30秒、60秒のタイマーがあり自動的に停止します。連続運転も可(最大...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エルメックス

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