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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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まとめて進呈!『真空関連機器の総合カタログ』&『真空の技術資料』
IGZO成膜やイオン注入技術など、技術者必見の資料と製品カタログを進呈…
空に関する技術資料」をプレゼント中! 総合カタログには、長期間の安定運転が可能な「ドライ真空ポンプ」、 省スペース・省電力を両立した「真空計」などを多数掲載。 技術資料は「IGZO膜の成膜手法」「マスクを用いたイオン注入技術」などを データ資料を交えて徹底解説!“真空”に携わる技術者必見の内容です。 【展示会情報】 半導体製造分野の祭典「SEMICON Japan 2015...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.
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有害物質を使用しないため環境にも配慮!クリーンな表面処理をご紹介します…
『KURACERA』は、アルミニウム合金の表面に、 硬く緻密なセラミックス層を成膜し、耐摩耗性および耐食性を飛躍的に 向上させる、画期的な表面処理法です。 アルミニウム合金の一般的な表面処理である陽極酸化などに 比べ遥かに硬く緻密で、また基材への密着性も高いため、耐食、...
メーカー・取り扱い企業: 倉敷ボーリング機工株式会社
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理化学機器全般の開発・製造・販売のことなら株式会社アールデックにお任せ…
いう限られたフィールドを超えて、一般 消費者の方にも展開できる製品作りに着手致しました。 オリジナリティを追求しながら「新しい分野への挑戦」も心掛けて参ります。 【取り扱い製品】 ■成膜関連製品 ■真空システム ■真空計/流量計&バルブ ■リークディテクタ&ポンプ ■分析 ■その他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アールデック
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エドワーズは、真空蒸着、スパッタリング、CVD、プラズマ重合等、多くの…
リューションをご紹介しています。 コーティングプロセスでは、様々な用途向けに金属、無機化合物、有機化合物を堆積させ、薄膜を形成するプロセスです。 真空ポンプは、プロセス中の不純物の混入防止、成膜速度の向上、プラズマ発生用途として使われています。 エドワーズは、これまでの設置実績に基づくアプリケーションのノウハウとプロセスへの豊富な知識により、パッケージソリューションをご提供いたします。 ...
メーカー・取り扱い企業: エドワーズ株式会社
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オーダーメイド型スパッタリング成膜装置
難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに…
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社 -
ダイヤモンドライクカーボン膜(DLC)コーティング加工
金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メ…
株式会社栗田製作所 本社・京都事業部 -
【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用…
テルモセラ・ジャパン株式会社 -
『熱硬化型焼結銅ペースト』半導体パッケージの高集積化に貢献
低抵抗・高放熱を実現する銅ペースト。200℃以上の加熱で焼結し…
株式会社ADEKA