【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

プラズマイオン注入成膜装置　PBII-R1000

生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。

プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

大面積イオンビーム照射装置

成膜せずにドーピングで物質の表面を改質！耐摩耗性の向上、耐疲労性の向上…

ISYS社　大面積イオンビーム照射装置は、成膜せずにドーピングで物質の表面を改質します。イオンビーム装置は加速されたイオンを製品表面内に注入させることによって表面を改質する方法です。メタル・セラミック・ポリマーなどの表面特性を向上します。イオン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

【特徴】 　・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術 　・低温で低エネルギー照射が可能 　・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】 　・超硬工具用保護膜（c-BN） 　・食品用バリア膜（アルミ） 　・太陽電池用下地膜（アルミ） 　・光学用フィルタ膜（ZrO₂、AI₂O₃等） ※詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス