リチウムイオンバッテリー用　手動積層装置（つづら折りタイプ）

PR【新製品】正極・負極及びセパレータを交互に精度良く手動で積み重ねる、つ…

本装置はリチウムイオン二次電池の積層工程において、正極・負極及び セパレータを交互に精度良く手動で積み重ねる装置です。積層の工程は、 ロール供給されるセパレータをつづら折りで繰り返し、折り曲げた間に 正極及び負極を交互に供給し積層を行います。 【特長】 ■つづら折りされたセパレーターの間に正極と負極を交互に重ねる受け台 　があり、受け台高さが一定になるよう上下に動作します。 ■積...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンクメタル 東京営業所

FOUP洗浄装置

PR特殊な高圧ノズルを使用し、ケミカル未使用で洗浄及び乾燥が可能な装置です

【環境負荷低減】 ・洗浄液は純水のみ使用 ・他社製品に比べ純水の使用量が少ない 【高い洗浄能力】 ・独自の洗浄処理で残渣とパーティクルの洗浄が可能 ・温風を瞬時に発生可能（常温→65℃まで3秒）　 ・FOUP BOXと蓋を別々に洗浄することが可能 ・瞬間加熱式の採用で頑固な接着剤や粒子を迅速に洗浄可能 ・高圧洗浄によりレジストなどの高い付着力を持つ汚染物の除去が可能 *Max 約10MPa（15...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

平行平板式減圧プラズマ処理装置　真空プラズマ装置

各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基（親水、親油、密着性…

「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

プラズマ表面処理装置『PlasmaDyne Pro』

導電性・非導電性を問わず、強力で均一な表面改質／表面洗浄を実現します

『PlasmaDyne Pro』は、プラスチック・ゴム・エラストマー・繊維・ 金属・ガラス・セラミックなど様々な素材の印刷／接着／濡れ性の問題を 解決する大気圧プラズマビーム式表面処理装置です。 強力な表面処理能力が、品質の改善や不良率の削減に寄与。 射出成型や押出成形品の溝や小さい空隙、容易に接触しにくい部分も 処理できます。 【特長】 ■放電ショックの危険が無いポテンシャ...

メーカー・取り扱い企業： ナビタスマシナリー株式会社

真空装置　基板用平行平板プラズマ処理装置　PC-RIEシリーズ

処理可能基板サイズ550×650ｍｍ。無廃液化・低ランニングコストを実…

「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、Ｆ系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化，無廃液化 ○低ランニングコス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

VacuTEC-真空プラズマトリーター

低電力と特別な処理用ガスを必要としない設計！材料に応じて20～120秒…

Tantecの『VacuTECプラズマトリーター』は、多様な射出成形部品の 大量処理を目的として設計されています。 本装置は、処理時間が短く、処理後工程での塗装、接着、印刷および ペイント用途に適した接着性を実現。 導電性表面と非導電性表面の両方を処理でき、非常にコスト効率よく 表面の濡れ性と接着性を向上できます。 【特長】 ■主電源と圧縮空気に接続するだけで使用可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社第一メカテック