• 【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220) 製品画像

    【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)

    PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-

    書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか!   新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 金型などの洗浄「ドライアイス洗浄とは?」※ホワイトペーパー進呈中 製品画像

    金型などの洗浄「ドライアイス洗浄とは?」※ホワイトペーパー進呈中

    PR母材を傷つけない、高効率・低コストの新しい洗浄技術。6種類の洗浄方法の…

    『ドライアイスブラスト洗浄』は、圧縮エアで噴射したドライアイスが 母材と汚れの間に入り込み、昇華時に約800倍に膨張する爆発力を用いて、 母材を傷つけることなく汚れを除去できます。 【特長】 ■非研磨なので母材を傷つけない ■薬剤不使用なので環境負荷が低い  (二次廃棄物がなく、有害物質などもない) ■効率よく洗浄できるのでダウンタイムなし ★現在、プラスチック・ゴム部品な...

    メーカー・取り扱い企業: Cold Jet

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    GMP231 CO₂プローブ

    CO₂インキュベータ用

    ンキュベータメーカー向けに設計され、精度と信頼性の高いCO2計測と+180°Cまでの高温滅菌での耐久性を提供します。GMP231 CO2プローブはヴァイサラが特許を取得しているCARBOCAP(R)技術と新しいタイプの赤外線(IR)光源を採用しています。...

    メーカー・取り扱い企業: ヴァイサラ株式会社

  • GMP252 CO₂プローブ 製品画像

    GMP252 CO₂プローブ

    農業、CO₂冷媒、温室、デマンド制御空調などの用途におけるppmレベル…

    O₂までの計測に対応可能 ・アナログ(V、mA)およびデジタル(ヴァイサラ プロトコルまたはModbusによるRS-485)出力を備えたインテリジェントプローブ ・独自の第2世代CARBOCAP技術による優れた長期安定性 ・広範な動作温度範囲:-40~+60°C ・IP65準拠のハウジング ・温度/圧力の補正 ・CO₂補正用の内部温度センサ内蔵 ・バックグラウンドガス(O₂)および...

    メーカー・取り扱い企業: ヴァイサラ株式会社

  • GMP251 CO₂プローブ 製品画像

    GMP251 CO₂プローブ

    ライフサイエンス用インキュベータ、冷蔵室など要件が厳しい用途における高…

    【特長】 ■計測範囲:0~20% CO₂ ■アナログ(V、mA)およびデジタル(RS-485)出力を備えたインテリジェントプローブ ■独自の第2世代CARBOCAP(R)技術による優れた長期安定性 ■広範な動作温度範囲:-40~+60°C ■IP65準拠のハウジング ■温度/圧力の補正 ■CO₂補正用の内部温度センサ内蔵 ■バックグランドガス(O₂)および湿度...

    メーカー・取り扱い企業: ヴァイサラ株式会社

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