【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社技術情報協会

FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能

PRG１～G６ｈの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケースの製…

当社の『ケース事業』では、お客様のニーズに合わせて、ケースの製作・ 修理・洗浄・保管から輸送までトータルシステムをご提案します。 精密・高品質なガラス搬送ケースの製造・クリーンルーム洗浄から物流 支援まで幅広く手掛けています。 また、長年培ってきたガラス精密加工技術をベースに、フラットパネル ディスプレイ用（LCD・OLED）フォトマスク用・メタルマスクのケースなどの 先端分野...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ディー・アール・エス（DRS)

屋外型窒素ガス発生装置『GENE-BASEシリーズ』

屋外設置可能でコンプレッサ内蔵型の窒素ガス発生装置！屋上、階段下、空き…

『GENE-BASEシリーズ』は、ガス発生装置のコフロックとコンプレッサの 北越工業との技術融合から誕生した、屋外型の窒素ガス発生装置です。 低純度から高純度までラインアップし、お客様のご要望に合わせたご提案が可能です。 屋内外設置に対応し、屋外では45℃の高温環境下でも連続運転可...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

中型窒素ガス発生装置『N2 IMPACT IIシリーズ』

スクロールコンプレッサ標準搭載で省エネ運転にも対応した中型窒素ガス発生…

『N2 IMPACT II』は、コンプレッサ内蔵型の窒素ガス発生装置です。 当製品で採用しているECOモード技術は特許取得済み。 PSA、コンプレッサの一括メンテナンスにより、メンテナンスコストを 削減できます。また、高耐久コンプレッサの採用により、メンテナンス周期を 約2倍に延長しました。（当社比...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡

H2+N2ガス発生装置『Dr.ONE SEVEN』

フォーミングガスやサーチガスに！水と空気から水素+窒素を発生

『Dr.ONE SEVEN』は、当社の｢窒素ガス発生装置｣、｢水素ガス発生装置｣、 ｢ガス混合装置｣の技術を結集して開発したH2+N2ガス発生装置です。 水と空気を原料として、手軽に水素+窒素の混合ガスを 発生させることが可能。 ボンベの管理が不要で、用途により水素比率の変更もできます。 ...

メーカー・取り扱い企業： コフロック株式会社 本社(京田辺工場)、八幡工場、東京、大阪、名古屋、福岡