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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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PTFE PFA・FEP ETFEの違いが分かる!技術資料進呈
PR意外と知られていないPTFE PFAの違いを分子構造や性質まで詳細に解…
技術資料『PTFE PFAの違い』は、PTFEとPFA、FEPやETFEについて 分子構造から性質まで詳細に解説しています。 くっつきにくく滑りやすい、といった機能面がよく知られているフッ素樹脂ですが、 その種類や違いなどは、意外と知らないという方が多いのではないでしょうか。 この1冊でそれぞれの違いと特徴についてしっかりと理解することができます。 ご興味のある方はお気軽にダウン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社吉田SKT
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ぬれ性能強化型ソルダペースト『EVASOL 1001シリーズ』
安定性を維持したまま、ぬれ強化を実現!多様な実装に対応可能
ラックスの耐熱性能を強化。 大小部品混載実装での温度ギャップによるぬれ不良や 微細パターンでの未溶融を防止します。 高い保管・印刷安定性 常温でのペースト内部の反応を制御する技術を採用。 輸送時、長時間印刷時の劣化を防止できます。 低Agでも良好なぬれ フラックスの耐熱性能が向上しているため、低Agでも良好なぬれを 実現。 金属相場変動の影響を...
メーカー・取り扱い企業: 石川金属株式会社
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残渣割れの問題点や対策など、はんだ付け不良に関する知識や技術をご紹介し…
残渣割れは、フラックス残渣に熱収縮、曲げなどの物理的な力が加わることで割れや剥離が生じる現象です。 残渣に割れが生じると、亀裂部分が吸湿するなどの現象が生じ、電気的信頼性の低下につながります。また、剥離したフラックスがスイッチ接点などに入り込むと動作不良の原因となります。 残渣割れの対策としては、基板の洗浄、コート剤の塗布がありますが いずれも工程追加などのコストの問題が発生するため...
メーカー・取り扱い企業: 石川金属株式会社
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【はんだ付け不良】ぬれ不良、ブリッジ、つの(やに入りはんだ)
材料の選定など、はんだ付け不良に関する知識や技術をご紹介します
ぬれ不良・ブリッジ・つのは、いずれもフラックス中の活性剤に起因する問題です。 活性剤ははんだ付けの際、熱によって分解・揮発し、消耗します。 消耗すると、ぬれ不良・ブリッジ・つの等の不良が発生するので、常に新鮮な活性剤をはんだ付け部に供給することで、これらの不良を防止することが可能です。 はんだ付け部へ、少量ずつ供給することで、新鮮な活性剤が常にはんだ付け部に存在し、良好なぬれを実現します。...
メーカー・取り扱い企業: 石川金属株式会社
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【はんだ付け不良】フラックス飛散、はんだボール(やに入りはんだ)
フラックス飛散の原因など、はんだ付け不良に関する知識や技術をご紹介しま…
やに入りはんだによる作業時の課題で多いのが、フラックス飛散です。製品の外観が損なわれる他、液晶画面、カメラユニット、スイッチ接点へ付着したフラックスは、製品の不具合につながります。 フラックスの飛散は、フラックス中の低沸点、低分解点成分が、はんだ付け時の熱によって沸騰、ガス化し、はんだ溶融と同時に爆発することで発生します。 飛散が発生しやすくなる要因としては以下のものがあります。 ・...
メーカー・取り扱い企業: 石川金属株式会社
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