• CZ/高抵抗FZ 各種ウェーハ販売(評価・開発・テスト用) 製品画像

    CZ/高抵抗FZ 各種ウェーハ販売(評価・開発・テスト用)

    PR少量ウェーハに対応!研究・テスト用途に便利なウェーハ販売サービス! ハ…

    【取扱商品】 *CZ・FZ・拡散ウェーハ・SiC・SOI・EPI・GaAs・SiGe・GaSb・サファイア・ゲルマニウムなど様々な半導体用ウェーハを扱っております。 *プライム・テスト・モニター用ベアウェーハ(高精度ウェーハ・パーティクルチェック用・COP対策品等) *SOIウェーハ:高抵抗デバイス層、基板も対応可、ウェーハを支給していただきSOIウェーハへ加工することも可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • 研削切削クーラント改善『クーラント用マイクロナノバブル発生装置』 製品画像

    研削切削クーラント改善『クーラント用マイクロナノバブル発生装置』

    PR研削切削クーラントタンクに投込むだけでクーラント用マイクロナノバブル発…

    クーラント用マイクロ・ナノバブル発生装置YJは、水中ポンプと マイクロバブル・ナノバブル発生装置「YJノズル」を組み合せた応用装置で、研削加工機のクーラント液タンクに投げ込むだけで加工時間短縮を実現します。『クーラント用マイクロ・ナノバブル発生装置YJ』は、マイクロバブル・ナノバブルの、帯電し長時間結合することなく球状のバブルを維持する特性がクーラント液の特性とマッチングすることにより、ミクロの...

    メーカー・取り扱い企業: エンバイロ・ビジョン株式会社

  • クロスエッジ微細加工 Cu-AlN-Cuサブマウント 製品画像

    クロスエッジ微細加工 Cu-AlN-Cuサブマウント

    高熱伝導率と絶縁性を両立!高出力半導体レーザ向けのサブマウント

    【特性】 ■材料特性:絶縁性 ■熱伝導率(W/m・K):190~250※ ■熱膨張率(ppm):6 ~10※ ■電気抵抗率(Ω・m): - ■最大使用電圧(V):<200 ■比誘電率(@1MHz):9 ■誘電体損失(Tanδ):5×10-4 ※設計によりコントロールが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いた...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニスコ

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