• JUKI新製品公開!6/12~14実装プロセステクノロジー展出展 製品画像

    JUKI新製品公開!6/12~14実装プロセステクノロジー展出展

    PRJUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産…

    JUKIは6/12(水)~6/14(金)に東京ビッグサイトにて開催される 「第25回 実装プロセステクノロジー展」に出展いたします。 今回の実装プロセステクノロジー展では、 JUKI Smart Solutions「高効率、最適化、高品質な生産プロセスの実現でお客様の課題を解決」 をテーマに、プラネットヘッドP20Sを加えた「高速フレキシブルマウンタ LX-8」をはじめ、 世界初公開...

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    メーカー・取り扱い企業: JUKI株式会社

  • 顕微鏡用ナノ位置決めステージ『DOF-5』 製品画像

    顕微鏡用ナノ位置決めステージ『DOF-5』

    PR低コストで高性能!画像の安定性を維持しながら高速なステップと整定を実現…

    『DOF-5』は、光学イメージングアプリケーション向けに最適化された 低コストで高性能なナノポジショニングステージです。 移動量(5mm)と帯域幅(225Hz以上)が大きく、画像の安定性を維持しながら 高速なステップと整定を実現。 また、ボリュームディスカウントが利用可能です。 【特長】 ■高価な顕微鏡用ピエゾステージの代替品として登場 ■ボリュームディスカウントが利用可...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キーストンインターナショナル

  • インジケータ『PLAZMARK Arクリーニング用』<カード型> 製品画像

    インジケータ『PLAZMARK Arクリーニング用』<カード型>

    イオン性のプラズマ検知に最適化!気になる箇所に手軽に設置できるカード型

    オン性のプラズマを効率よく検知可能。 ラジカル主体のプラズマや、ラジカル源となるガスとの 混合系では、O2クリーニング用のほうが適しています。 【特長】 ■イオン性のプラズマ検知に最適化したインジケータ ■目的に合わせてお選びいただける3形状 ■半導体の後工程など幅広く使用可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

  • インジケータ『PLAZMARK Arクリーニング用』<ラベル型> 製品画像

    インジケータ『PLAZMARK Arクリーニング用』<ラベル型>

    シールのように貼付け可能なラベル型!半導体の後工程など幅広く使用可能

    能。 当製品の他に、気になる箇所に手軽に設置できる「カード型」と、大面積で 分布を捉えることのできる「シート型」の3形状をご用意しております。 【特長】 ■イオン性のプラズマ検知に最適化したインジケータ ■目的に合わせてお選びいただける3形状 ■半導体の後工程など幅広く使用可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

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    • PLAZMARK Arクリーニング用 カード型-2.PNG
    • PLAZMARK Arクリーニング用 カード型-3.PNG

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

  • インジケータ『PLAZMARK Arクリーニング用』<シート型> 製品画像

    インジケータ『PLAZMARK Arクリーニング用』<シート型>

    O2クリーニング用では検知しにくいイオン性のプラズマを効率よく検知可能…

    ーニングなど、幅広い場面で使用可能。 ラジカル主体のプラズマや、ラジカル源となるガスとの混合系では、 O2クリーニング用のほうが適しています。 【特長】 ■イオン性のプラズマ検知に最適化したインジケータ ■目的に合わせてお選びいただける3形状 ■半導体の後工程など幅広く使用可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    • PLAZMARK Arクリーニング用 カード型-3.PNG
    • PLAZMARK Arクリーニング用 カード型-1.PNG

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

  • PLAZMARK O2クリーニング用・Arクリーニング用 製品画像

    PLAZMARK O2クリーニング用・Arクリーニング用

    3種の感度から選択!実装工程などに最適なプラズマ処理硬化の評価ツール

    『PLAZMARK O2クリーニング用・Arクリーニング用』は実装工程や後工程 向けのプラズマ処理効果の評価ツールです。 「O2クリーニング用」はラジカル性のプラズマ検知に最適化。 UV洗浄やUVオゾン洗浄にも適用できます。 「Arクリーニング用」はイオン性のArプラズマを効率よく検知。 ラジカル主体のプラズマや、ラジカル源となるガスとの混合系では O2クリー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部

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