• ダイヤモンド量子センサ:量子物理実験システム 製品画像

    ダイヤモンド量子センサ:量子物理実験システム

    PRNVセンタ搭載の量子物理学実験システムです。

    メーカー:Kwan-tek(フランス) Kwan-tek社は量子物理学・量子エンジニアリングを学ぶ学生向けに、NVセンタを搭載した学習キットを開発しました。ODMR(光検出磁気共鳴)やゼーマン効果、超微細構造などの測定実験を手軽に行うことができます。基本システムにオプションのパルスシステムを組み合わせると、ラビ振動や縦緩和時間T1などの測定も可能になります。 【特長】 ○シンプルなプ...

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    メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社

  • 液体濾過システム『リクレアン』「JIMTOF2024」出展! 製品画像

    液体濾過システム『リクレアン』「JIMTOF2024」出展!

    PR環境対応型!ロフ取替式フィルター(金属加工液濾過システム/水処理システ…

    『リクレアン』は、圧力損失が少なく短時間でスラッジの大量捕集を実現する 液体濾過システムです。 本体(フィルター)と濾布を脱着可能な構造にすることで、 濾布のみの交換で繰返し使用することができます。 さらに、菅体内で使用中にエア逆洗浄することにより付着物を剥離除去し、 濾布の連続使用が可能になり、コスト削減に大きく貢献します。 【特長】 ■濾布と支持体は繰り返し使用し省資...

    メーカー・取り扱い企業: 京滋興産株式会社

  • マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー) 製品画像

    マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー)

    テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー

    テーブルトップシステムのマスクレスアライナー µMLAは、最先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA(マイクロ・エム・エル・エー)はこれまでの卓上型直描装置よりも経済的でカスタマイズ可能な柔軟性に優れた最...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、B...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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